真空蒸着装置
バッチ式高真空蒸着装置eiシリーズ
バッチ式高真空蒸着装置eiシリーズは、基板上に金属や酸化物を成膜するための装置です。操作パネルから集中的制御で排気操作・成膜操作を自動で行うことができるため、研究開発および少量生産に適しています。
特長
- 多様な蒸発源を搭載可能(EB、抵抗、EB+抵抗)
- プロセスに応じた基板ホルダ(リフトオフ、プラネタリ、サテライトetc.)
- Φ2 in〜 6 in基板、矩形基板、Si、化合物、ガラス、セラミック各種基板対応
- 液晶タッチパネル上での集中表示・操作
- PCによる優れた操作性・機能(レシピ機能・データロギング・メンテナンスアシスト機能)
用途
- パワーデバイス等の化合物関連
- LED、LD、高速デバイス
- 各種実験用
- その他電子部品全般
