電極形成のためのリフトオフ蒸着

高いリフトオフ性と高品質な膜を実現する蒸着技術を提供します。

課題

・蒸着膜の密着性向上と蒸着膜の内部応力制御

・リフトオフ性と蒸着膜の付き回り性改善

提案

・イオンソースによる基板表面のクリーニング

イオンソースによる前処理を行うことで蒸着膜の密着性が向上

・イオンアシスト蒸着

イオンアシストにより、緻密で強度が強く、表面が平坦な膜を作ることで内部応力を制御

Ni蒸着膜の内部応力制御(厚さ 600nm)

・リフトオフ用蒸着治具の活用

入射角を制御しリフトオフ性を改善

・自公転治具を使った膜の付き回り性改善

リフトオフ成膜時の断面写真

 

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