アルバックは、日本の真空技術のパイオニアとして、創業以来、真空に関係する多くの分野で、知的財産権やノウハウを含む知的資産を蓄積してきました。社内に蓄積された真空関連の知的資産は、冶金・薬品・食品からディスプレイ・半導体・電子分野まで裾野が広く、新しい技術への展開が可能です。真空技術は、空気さえも不純物となるクリーンな環境で行われる薄膜形成や微細加工に必須の技術です。また、低温で物質の分離や純化が可能なエコロジー技術でもあります。
私たちは、真空技術が今後の持続可能な世界に必要であり、大きく貢献できると信じています。
来るべき将来のために自社開発に加え、お客様をはじめとする企業や大学機関との共創を進めることで、必要な知的資産の準備を進めています。特に、成長が予想される半導体・電子部品製造装置の分野で、社会の要求に答えられるように、重点的に開発投資を行い、知的資産の獲得および活用を強化します。
アルバックの知的資産基本方針は、
【知的資産を活用した事業環境の整備と向上、アルバックグループ全体の競争力強化、企業価値の向上】です。
知的資産基本方針に従い、下記の4項目を実施していきます。
アルバックグループ全体の知財戦略を議論するための組織として「知財戦略コミッティ」を設置しています。
開発担当役員を委員長とし、取締役会との連携を図ります。
「知財戦略コミッティ」のメンバーは、事業責任者、開発責任者、そして事務局として知財担当者が加わり、三位一体の戦略を推進しています。
さらに、営業責任者および分析装置、材料などを担当する周辺技術の責任者も参加し、各方面の情報を統合し、全方位的な視点からアルバックグループ全体の知財戦略を策定します。
保有状況や活用実態を継続的に確認する活動を実施しています。
保有特許数の変化については、事業との関係性や権利の役割を点検し、不使用となっている特許や役割を終えた権利について整理・見直しを行ってきた結果によるものです。
知的財産については、事業への寄与や活用の可能性を踏まえた管理を行っています。
半導体・電子部品製造装置分野においては、装置構成やプロセス技術、関連する周辺技術を含む幅広い技術領域に関する特許を保有しています。
ディスプレイ・エネルギー関連製造装置分野については、売上対象事業の規模と特許構成比や技術ポジションとの関係を踏まえた特許の構成となっています。
その他の事業領域については、事業環境や市場動向を踏まえ、知的財産の構成を調整しています。
知財部門では、経営戦略および事業戦略と連携し、成長領域や未来領域を意識した知財活動を推進します。
製品企画段階から市場投入後に至るまで一貫した活動を展開し、知財環境の可視化や知財設計書の活用を通じて、知財戦略の策定とリスク回避に取り組んでいます。持続可能な価値の創出を支援し、将来の成長機会の獲得を目指しています。
EVバッテリー市場は今後拡大が見込まれています。当社は保有する真空技術を活用することにより、次世代EVバッテリーの技術革新に貢献します。技術動向調査によれば、次世代EVバッテリーには、安全性向上、小型・軽量化、部材コスト低減、GHG削減等の課題があります。当社はこれまで培ってきた巻取式の真空成膜技術により、これらの課題を解決します。
知財活動では、技術動向の分析を行い、開発をサポートして、市場をリードする製品を提供することに寄与します。さらに、当社は、市場優位性を維持するために特許出願を継続的に行い、知的財産ポートフォリオを強化します。
パワー半導体市場は、特に今後伸長する分野の一つとなっています。当社の製造装置も市場拡大が期待されています。技術動向調査によれば、パワー半導体用製造装置においては、小型化、高出力化、電力ロス低減、低コスト化といった課題が挙げられ、当社はイオン注入、スパッタ、エッチング等の真空装置技術を用いて、これらの課題を解決します。
また、知財活動においては、市場成熟度、他社とのポジション比較、保有技術の強み等に関する分析を行い、開発をサポートします。戦略的な知財取得を継続的に行うために、知財部門、開発部門、および事業部門間で多面的にコミュニケーションをとりながら、将来性を高める知的財産ポートフォリオの構築に取り組んでいます。
アルバックの知的資産は、自社の競争力を支える重要な経営資源です。自社開発に加え、産学官との共創を通じて蓄積・発展してきた知的資産は、技術革新の原動力となり、社会課題の解決に貢献しています。中核をなす真空技術は、次世代エレクトロニクスを支える薄膜形成技術をはじめ、極低温冷却技術や分析技術などさまざまな先端分野を支える基盤技術として活用されています。当社技術は、お客様の製造工程における省エネや生産性向上に貢献するとともに、最先端半導体などのデバイスを通じて社会全体の環境負荷低減を支えています。蓄積された技術やノウハウは、新たな技術開発と社会実装を支える基盤となっています。
~ 極低温冷却技術における知的資産の活用 ~
量子コンピュータの基盤となる極低温冷却技術において、当社および当社グループが保有する真空技術と極低温技術に関する知的資産が量子コンピュータの実現を支える技術開発に活かされています。具体的には、希釈冷凍機、パルスチューブ冷凍機、真空部品を自社で一貫して開発・製造してきた技術蓄積を基盤に、10mK級の極低温環境を長時間にわたり安定して維持することを実現しています。
本技術は純国産量子コンピュータに採用され、国内研究機関への設置や国際的なイベントでの公開を通じて、社会実装が進展しています。また、 2025年度にはJVIA( 一般社団法人日本真空工業会)からも高く評価され、真空装置大賞を受賞しました。
知財部門は、戦略的な権利取得と適切な知財管理を通じて、関係機関との円滑な連携や協業を支え、技術発展と社会実装に貢献しています。
このサイトでは、お客様の利便性や利用状況の把握などのためにCookieを使用してアクセスデータを取得・利用しています。Cookieの使用に同意する場合は、
「同意しました」をクリックしてください。「個人情報保護方針」「Cookie Policy」をご確認ください。