イオン注入装置
高エネルギー対応のイオン注入装置SOPHI-400
Max1200keVまで対応可能な高エネルギーのイオン注入装置です。
特長
- 枚葉式
- 薄Wafer対応
- パラレルビーム
用途
- パワーデバイス等の薄型基板プロセス、IGBTプロセス
仕様
- 基板サイズ：Max200mm
- 最大電圧：Max1200 keV
