エッチング装置
研究開発向け
研究開発向け
NLDドライエッチング装置NLD-570
研究開発向けNLDドライエッチングNLD-570は、アルバックが独自に開発した磁気中性線プラズマ（NLD）による低圧・低電子温度・高密度プラズマを搭載したドライエッチング装置です。
特長
- NLDはICP方式に比して更なる低圧・高高密度・より低電子温度プラズマのため石英・ガラス、水晶やLN、LT基板等の加工に。
- パイレックスやホウケイ酸ガラスなど不純物の多いガラス加工も形状や表面平滑性に優れたエッチングが可能
- 石英やガラスのディープエッチング（100μ m以上）にもマスクとして厚膜レジストの使用が可能。
- 高速エッチングが可能（石英＞1μ m/min、Pyrex＞0.8μ m/min）
- カセット室追加が可能。
用途
- 光デバイス（回析格子や変調器、光導波路や光スイッチ等々）、凹凸型のマイクロレンズ、フォトニック結晶、流体経路（μ-TAS）作成など。
