ドライエッチング装置
Model：NLD-5700
当社が独自に開発した磁気中性線プラズマ（NLD）による低圧、低電子温度、高密度プラズマを搭載した、オプトデバイス、MEMS向けの、ドライエッチング装置です。
特長
- カセット室を標準装備し、アライナ機構の追加で量産装置としてご利用が可能
- 追加エッチングチャンバーやアッシングチャンバーの搭載が可能
- NLDはICP方式に比べ、さらに低圧、高密度、低電子温度のプラズマを生成できるため、石英、ガラス、水晶、LN、LT基板などの加工が可能
- チャンバーメンテナンスが簡単で効率的
- マスクエッチングから石英、ガラスのエッチングまで、幅広いプロセスソリューションを提供
用途
- 光デバイス（回析格子や変調器、光導波路や光スイッチなど）
- 凹凸型のマイクロレンズ
- フォトニック結晶
- 流体経路（μ-TAS）作成
