SEMICON2020特設ページ(ALD)

アルバックはOxford社の最先端ALD装置（原子層堆積装置）及び
ALE装置（原子層エッチング装置）の販売を開始いたしました。

原子層堆積 -Atomic Layer Desposition

原子層堆積（ALD）は最先端な成膜技術であり、原子層レベルの極薄膜を正確に制御された手法により堆積させることができます。
ALDは、優れた膜厚制御と均一性を実現するだけでなく、アスペクト比の高い構造に対しての成膜や、形状に沿った成膜、3D構造へも成膜することができます。

ALDは自己制限的な表面反応にする成膜法で、ピンホールやパーティクルが非常に少ない膜が可能であり、広範囲な用途に対し適用が見込まれます。
また、薄膜と界面の制御および高品質な薄膜は多くの用途で要求されています。

プラズマの活用は、広範な材料において、薄膜特性と制御性向上を可能にします。
また、特有な表面への前処理を行うことにより、低ダメージで高品質なデバイスを作るプロセスを実現します。

ALD装置 FlexAL®_ss.jpg