The FlexAL

FlexALは、単一のALD装置において、リモートプラズマ原子層堆積(ALD)プロセスおよび熱ALDの両方を実現し、ナノスケール構造およびデバイスの製造において、新しい柔軟性と性能を提供します。

  • 1台で柔軟にリモートプラズマと熱ALDが可能
  • クラスター化により、In-situ下の搬送が可能
  • C to Cにより、スループットを高め、生産に適応化
  • 材料およびプリカーサーの選択ができるため、高い柔軟性
  • プラズマALDによる、低温プロセスが可能
  • リモートプラズマの活用により、低ダメージを維持
  • グラフィックユーザーインターフェイス(GUI)により全レシピを完全制御
  • 最大200 mmのウェハーまで可能
  • 概要
  • 特徴
  • アプリケーション

ALD製品シリーズは、大学研究向け、企業のR&D、少量生産等の多様な要求に対応が可能となるラインナップを揃えております。

オックスフォード・インストゥルメンツのプロセスライブラリーでは広範囲にわたり、新しいプロセスが絶えず開発され、更新が続いています。ALD装置のライフタイム期間中は、継続的なプロセスサポートを無料にてご提供し、新材料の開発に関するアドバイス、および新しいプロセスレシピを含む当社の最新のALDプロセス開発へ継続的にアクセスできることを提供いたします。

プリカーサーボトルをグルーブボックスで – In-situ で交換可能

ポート – In-situ エリプソメントリー測定器の追加が可能

クラスター化 – 基板の真空中搬送

C to C ハンドリング – 生産に適したスループット増加

ロボットハンドルとカセットチャンバー – 100mm、150mm、200mm基板に対応(サイズ変更の際に工具は不要)

いずれの構成でも、クリーンルーム内に設置、または、パーテーションで仕切ることが可能 – 簡単に配置

200mm ロードロック式

  • ナノエレクトロニクス
  • High-k ゲート酸化膜
  • ストレージキャパシタ誘電体
  • Cu 配線用高アスペクト比拡散バリア膜
  • OLED およびポリマー用のピンホールフリーのパッシベーション膜
  • 結晶シリコン太陽電池のパッシベーション膜
  • マイクロ流体デバイスおよびMEMS用途向けのコンフォーマルな成膜
  • ナノ多孔質構造への成膜
  • バイオMEMS
  • 燃料電池