異符号の電荷を有する2種類以上の荷電粒子群を含み、そのうち少なくとも1種の荷電粒子群が不規則な熱運動を行っている系において、 2つの荷電粒子間の相互作用が及ぶ平均距離より、十分大きな寸法を持った体積部分のこと。 … プラズマとは

AC(Alternating Current)とは、向きが周期的に変化する電流のことであり、1秒間に向きが変わる回数を周波数と呼ぶ。 … ACスパッタとは

DC(Direct Current)とは、電圧が常に一定であり、一定の方向に電気が流れるものである。 … DCスパッタとは

スパッタリングとは、薄膜形成に用いられる物理的気相成長法(PVD)の1種である。 … スパッタリングとは

スパッタ装置でカソードと基板間、正確に言うとカソードのターゲット表面から基板までの距離の事を指します。 … TS距離とは

ステップ･カバレッジとは段差被覆性と言い、基板の表面にある微細な段差部（蒸発源に対して垂直方向の面）にスパッタリング、蒸着等で成膜した時の、膜の被覆状態をいいます。 … ステップカバレッジとは

バッキングプレートはスパッタリングターゲットに張り合わせて使われるスパッタリングカソードを構成する部品の一つです。 … バッキングプレート

イオン注入技術は、注入したい物質（不純物）をイオン化し、加速して半導体基板内に打ち込むことで、基板内に不純物を添加する方法です。 … イオン注入とは

イオンビームミリングとはイオンビームで膜の凸部分を削り平坦化する技術です。 … イオンビームミリングとは