ULVAC - Think Beyond Vacuum
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産学連携で未来を創る!アルバック×大阪大学の博士育成プロジェクト

アルバックは、2026年度も引き続き大阪大学と博士人材育成に取り組みます。 このプロジェクトは、大学と企業が協力し、未来を担う研究者を育てることを目的としています。私たちは、産学連携を通じて社会に新しい価値を生み出すことを目指しています。 活動のポイント この取り組みの中心となるのは、大阪大学の「未来基金」への寄付です。これにより、研究と教育の両面で連携を強化しています。大学の最先端研究と、アルバックが長年培ってきた産業技術を組み合わせることで、社会課題を解決し、新しい価値を創出することを目指しています。こうした協力関係は、単なる資金提供にとどまらず、知識と技術の融合によるイノベーションを促進します。 なぜ博士人材育成が重要なの? 博士課程の学生や研究者には、深い専門知識だけでなく、産業界で求められる実践的な課題解決力が必要です。このプロジェクトでは、学術と産業をつなぐ次世代の人材を育成することをめざしています。産業界で活躍できる博士人材を育てることは、日本の技術力強化にもつながります。 これまでの成果 これまでに、多くの博士課程の学生が学会や国際会議で成果を発表しました。さらに、共同研究から新しい研究テーマが生まれ、外部資金の獲得にもつながっています。 こうした成果は、大学と企業の双方にメリットをもたらし、「双方向型の共創モデル」として定着しつつあります。このモデルは、研究と産業の距離を縮め、イノベーションを加速させる重要な仕組みとなっています。 これからどうなる? 2026年度は、これまでの成果をさらに発展させ、博士人材育成とオープンイノベーションを両立させる取り組みを続けます。未来基金を通じた支援により、産学連携をさらに深め、社会に貢献する研究を推進します。 興味のある方は、大阪大学の未来基金サイトもぜひチェックしてみてください! 関連外部サイト 大阪大学の未来基金について https://www.miraikikin.osaka-u.ac.jp/greeting 大阪大学未来基金 「産学官共創による工学博士人材育成事業」
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ULFes2025 開催レポート

「つながる・ひろがる 真空の輪」をカタチにした一日! ~4,500名が参加!~ 2025年11月15日(土)、アルバック茅ヶ崎本社・工場にて「ULVAC Festival 2025(ULFes2025)」が開催されました! 今年のテーマは「つながる・ひろがる 真空の輪」。秋晴れの空の下、地域の皆さまや来場者の方々にご参加いただき、笑顔あふれる一日となりました。 「真空の世界にふれてみよう!」体験型イベントが充実 屋内では、アルバックの技術を楽しく学べる体験型コンテンツが盛りだくさん! 未来技術研究所 × 大阪大学の協働研究紹介 分析室見学ツアー 半導体製造プロセスをゲーム感覚で体験できるデジタルコンテンツ 昨年好評だった「真空実験」や「クリーンルーム入室体験」も継続開催。子どもたちが目を輝かせながら参加する姿が印象的でした。 海外グループ会社による「海外文化体験」では、各地域の遊びや文化を通じて国際交流も楽しめました。 中庭では、森林プロジェクトとビーチクリーン活動がコラボした「オリジナルフォトフレーム製作体験」も開催。自然素材を使ったクラフトに親子で夢中になる姿も見られました。 食欲の秋を満喫!飲食ブースが大盛況 お祭りの楽しみといえばグルメ。今年も「たこ焼き」や「ちょぼ焼き」の屋台が登場し、香ばしい匂いに誘われて長蛇の列が。アルバックの東北・九州工場から届いた焼酎や日本酒も好評で、大人にも人気でした。 茅ヶ崎市近隣の飲食店によるキッチンカーも多数出店し、子どもから大人まで満足できるラインナップで"食欲の秋"を堪能できるフェスとなりました。 さいごに 「つながる・ひろがる 真空の輪」をテーマに開催された ULFes2025。技術と地域、そして未来への想いが交差する、あたたかく楽しい一日となりました。 アンケートでは、半数以上が初めての参加で、満足度は9割を超えることができました。ご来場いただいた皆さま、そして運営にご協力いただいたすべての方々に心より感謝申し上げます。 来年も、さらに進化した ULFes でお会いしましょう!
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SK hynixから『Best Partner Award』を受賞しました!

2025年9月29日、韓国の大手半導体メーカーSK hynixが開催した「Partners Day」で、アルバックが「Best Partner Award」を受賞しました。この表彰は、SK hynixの半導体製造工程において、アルバックのスパッタリング装置「ENTRON」が正式採用(POR)され、その高い技術力と品質向上への取り組みが評価されたものです。 評価された3つのポイント 1.技術信頼性の確保 スパッタリング装置「ENTRON」が、SK hynixの製造工程で求められる高い信頼性を実証しました。 均一な膜品質を安定して提供できることが認められ、POR(Process of Record)を獲得しました。2.グループ連携による技術力強化 アルバックグループ全体で、開発から性能検証、顧客対応までを一体となって推進しました。 日本と韓国のチームが緊密に連携し、課題解決に取り組んだことが評価されています。3.事前評価体制の整備 韓国・平澤にあるTechnology Center PYEONGTAEKに評価システムと検証プロセスを導入し、開発初期から 品質の安定性を確保しました。この体制により、顧客の要求に迅速かつ確実に応えることが可能になりました。 社長コメント ULVAC KOREA, Ltd.の崔承洙(チェ・スンス)社長: 「新しい市場や技術への挑戦は決して簡単ではありません。しかし、諦めず挑戦し続ける姿勢こそが最も大切です。今回の成果は、私たちの努力と情熱が一つになった結果です。過去20年間、幾度もの困難を乗り越えてきた当社にとって、SK hynix向けプロジェクトの成功は大きな意味を持ちます。今後も挑戦と協力の精神を大切にし、さらなる飛躍を目指します。」 PORとは? 半導体製造において、特定の装置や材料が正式に採用されるプロセスのことです。PORを獲得することは、技術信頼性の証であり、メーカーにとって重要なマイルストーンです。 アルバックの今後 今回の受賞を機に、アルバックは顧客との共同開発をさらに強化し、半導体市場での技術基盤を確立していきます。
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真空実験でワクワク体験!茅ヶ崎「子どもふれあいまつり」参加

2025年10月13日、茅ヶ崎市役所で開催された「第2回青少年フェスティバル 子どもふれあいまつり」に参加しました! 今年で2回目となるこのイベントは、「日本宇宙少年団茅ケ崎分団」や「ちがさき宇宙フォーラム」などが中心となって運営されており、 子どもたちがのびのびと交流できる新しい形のフェスティバルとして企画されています。 会場となった茅ヶ崎市役所の庁舎内では、ダンスやチアリーディング、一輪車、縄跳びなど、 元気いっぱいのパフォーマンスが次々と披露され、たくさんの観客でにぎわいました。 私たち ULVAC(アルバック) も、昨年に続き「真空実験ブース」を出展! 子どもたちが目を輝かせながら実験に参加する姿に、スタッフ一同とても嬉しくなりました。 実は、日本宇宙少年団茅ケ崎分団の初代団長は、当社の第3代社長・林主税氏。 そんなご縁もあり、私たちはこのイベントを大切にしています。 来場者の中には、「先日サッカーの試合でグラウンドをお借りしました。また来月もアルバックに行きます」と 声をかけてくださる親子や、「ULVAC Festivalのポスター見ました!楽しみにしています!」と話してくださる地域の方もいて、 地域とのつながりを改めて感じる一日となりました。 今後も、教育委員会と連携しながら青少年の育成に貢献し、地域との絆を深めていきたいと考えています。
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富士裾野工場の電力、実質100%再生可能エネルギーに切り替えました! 

富士裾野工場、使用電力を実質すべて再生可能エネルギーに! 2025年7月から、当社の富士裾野工場で使う電気が、実質的にすべて再生可能エネルギー(再エネ)由来のものになりました。 再生可能エネルギーとは、太陽光や風力など、自然の力を使って作られる電気のこと。環境にやさしく、地球温暖化の原因となるCO2の排出を減らすことができます。 どうやって実現したの? 今回の切り替えは、東京電力エナジーパートナー株式会社が提供する「オフサイトコーポレートPPA」という仕組みを使っています。これは、工場の敷地外にある太陽光発電所で作られた電気を、一般の電力網を通じて工場に届ける契約のことです。 この仕組みを使うことで、年間約3,200メガワット時(MWh)もの再エネ電力を安定的に調達でき、約1,300トンものCO2排出を減らすことが見込まれています。 さらに、再エネ電力証書という環境価値の証明書も購入しているため、富士裾野工場で使う電気は「実質的に100%再生可能エネルギー由来」と言えるのです。 再生可能エネルギーのメリットって? 環境にやさしいCO2の排出を減らし、地球温暖化の防止に貢献します。 電気代の安定再エネは価格が安定しているため、電気代の急な高騰リスクを減らせます。 企業価値の向上環境に配慮した取り組みは、社会からの信頼や評価を高めます。 今後の取り組み 当社は、2030年までに温室効果ガス排出量を2023年比で50%削減し、2050年には実質ゼロを目指しています。富士裾野工場だけでなく、九州工場でも太陽光発電設備を稼働させるなど、国内外で再生可能エネルギーの導入を計画的に進めています。 これからも持続可能な社会の実現に向けて、環境にやさしいエネルギーの活用を推進していきます。 用語解説 オフサイトコーポレートPPA 工場の敷地外にある再生可能エネルギー発電所から電気を購入し、一般の電力網を通じて供給を受ける契約のこと。 敷地内に発電設備を設置するよりも多くの再エネを安定的に調達できます。 再エネ電力証書 電気そのものとは別に、再生可能エネルギーで作られた電気の環境価値を証明する証書のこと。 これを購入することで、実質的に再エネ由来の電力を使っていると認められます。 これからもアルバックは、環境にやさしい技術と取り組みを通じて、みなさまと一緒に持続可能な未来をつくっていきます。 応援よろしくお願いします!
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森林の力を未来へつなぐ----やどりき水源林での森林再生プロジェクト

2025年7月26日(土)、やどりき水源林*1にて、当社が取り組む森林再生プロジェクト*2が開催されました。今回は従業員とそのご家族、総勢25名が参加し、自然とふれあいながら学びと体験を深める一日となりました。 森林が育む「水のちから」を体験 活動の中心となったのは、「水源涵養(かんよう)機能」を学ぶ実験です。これは、森林が雨水を蓄え、ゆっくりと地中に浸透させることで、川や地下水の水量を安定させる働きのこと。実験では、荒れた森林と保全された森林を模したキットに水を流し、流れ方や水の色・量の違いを観察しました。 子どもから大人まで、目で見て体験することで、森林が私たちの生活を支えていることを実感。水不足や洪水といった問題が、森林の状態と密接に関係していることを学びました。 汗を流して、森を守る 実際の間伐作業にも挑戦。枝打ちや間伐は、森林の健全な成長を促すために欠かせない作業です。参加者の皆さんは汗をかきながらも、達成感に満ちた表情で作業を終えました。 清流に生きる命との出会い 寄沢の清流では、水生生物の観察も行いました。インストラクターの解説を受けながら、「きれいな水」に生息するサワガニやカジカを実際に観察。水質と生物の関係を学ぶ貴重な機会となりました。 夏の思い出と、未来への一歩 昼食後にはスイカ割りも行われ、子どもたちの笑顔があふれるひとときに。暑い日ではありましたが、森林の心地よい風の中で過ごした時間は、夏休みの楽しい思い出となったことでしょう。 私たちは、こうした活動を通じて、次世代に豊かな自然環境を引き継ぐことを目指しています。今後も従業員の皆さんとともに、森林保全に積極的に取り組んでまいります。 参考情報 *1)やどりき水源林 神奈川県松田町寄に広がる約529haの森林で、神奈川県が管理し、公益財団法人かながわトラストみどり財団が運営協力しています。 水源涵養や自然体験の場として県民に親しまれています。 *2)森林再生プロジェクト 本社・工場が立地している神奈川県の森林は、全国平均に比べて非常に少ない数値となっています。 神奈川県では、水源林の役割を持つ森林の豊かな恵みを次の世代に引き継ぐための整備活動が行われています。 この取り組みに賛同し、神奈川県が推進する「森林再生パートナー」制度に2022年6月から参画しています。 本制度による森林整備を通して算定されるCO₂吸収量は、5年間で247tになります。 地球にやさしく持続可能な社会づくりに貢献するという2050年にありたい姿の実現に向けて、環境活動に取り組んでいます。
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ドライエッチングとは

エッチングとは、半導体製造工程において半導体上の不要部分の薄膜を加工する技術である。薄膜上のマスクのパターンを転写することであり、マスクに覆われていない部分の薄膜を一部または全部除去する工程のことを指す。 ドライエッチングでは、一般的に誘導結合プラズマ (ICP, Inductively Coupled Plasma) や容量結合プラズマ (CCP, Capacitively Coupled Plasma) などの真空放電プラズマを用いる。 エッチング対象物に対して反応性を有するガスのプラズマを生成し、処理基板にバイアスを印加することでプラズマ中の反応性イオンを基板表面に引き込み、エッチングを促進する。反応性イオンエッチング (RIE, Reactive Ion Etching) とも呼ばれる。より速く異方性をもってマスクのパターンを薄膜に転写できる。そして、薄膜材料 (固体) を化学反応によって気体として排気するため、真空容器中への薄膜元素の蓄積を抑制でき、エッチングの長期動作安定性が高い。それらの特徴によって、半導体・電子部品の製造工程で重要な役割を果たしている。 エッチング装置の紹介はこちら 意外と知らない真空用語解説一覧
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光学薄膜とは

光学多層膜はガラスや樹脂,金属などの基材に数種類の屈折率の異なる材料を交互に形成することで特定波長の光を透過・反射する機能をもたせた薄膜である(Fig.1)。かねてよりレンズの反射防止膜や増反射ミラーなどで使用され,光学フィルタやハーフミラーなど応用例は多岐にわたる。 光学薄膜の原理 また,近年では3D顔認証用のセンサー,距離計測用のLiDAR(Light Detection and Ranging),生体認証などのデバイスにも光学薄膜が活用されている。これらのデバイスではFig.2に示すように,光源から特定の波長の光を対象物に照射し,対象物から反射してきた特定波長の光のみを検出するため,BPF(Band Pass Filter)が用いられている。特に,顔認証用途の近赤外BPFは,広い視野角にわたって信号損失を少なくするため,対象物からの反射光が大きな角度で入射した場合でもBPF透過帯の中心波長のオフセット量が小さく,高透過率のものが求められる。 BPF(バンドパスフィルター)の原理 そのため,これまで主に使用されてきた高屈折率成膜材料のTa 2 O 5 ,Nb 2 O 5,TiO 2に比べて,近赤外波長領域での屈折率が高く可視光波長領域を吸収する特性をもつ水素化アモルファスシリコン(a-Si:H)を使用したBPFが注目されている1 )。a-Si:Hを使用することでBPFの膜層数,膜厚の低減が可能となり生産性の向上が期待される。 また,Fig.3に示すようにスマートフォンのカメラモジュールなどは,従来レンズや光学フィルタなどの光学部品とCMOSなどの半導体部品を別々に製造後,モジュールとして組み立てを行っていたが,今後ウェーハレベルで各部品を作製,貼り付けを行った後にカットするWLO(Wafer Level Optics)と呼ばれる製造方法が主流になると言われている。そのため,φ200 mm,φ300 mm ウェーハへの対応,品質面においても従来より低パーティクル装置・ハンドリング管理の対応が求められる。光学膜の成膜方法としては蒸着が用いられてきたが,光学膜の用途が広がるにつれ膜厚制御性や面内分布の要求がより高度になり,スパッタ法による光学膜の成膜に注目が集まっている。 光学デバイスの製造プロセス 記事の続きは下記URLよりアルバックテクニカルジャーナルに ユーザ登録するとご覧いただけます。 https://www.ulvac.co.jp/r_d/technical_journal/tj84j/
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GaNパワーデバイス

本研究は,文部科学省『省エネルギー社会の実現に資する次世代半導体研究開発』事業JPJ005357ににおける名古屋大学殿の協力機関としての成果が含まれる。本事業では,次世代半導体材料として有望な窒化ガリウム(GaN)に関して,材料創製からデバイス動作検証・システム応用までの研究開発を一体的に行う研究開発拠点を構築し,理論・シミュレーションも活用した基礎基盤研究を実施することにより,実用化に向けた研究開発を加速することを目的としている。 GaNパワーデバイスの低ダメージドライエッチング技術 近年の飛躍的な科学技術の進歩に伴い,エネルギー消費量は世界的にますます膨大になっている。一方で,エネルギー発電やガソリン自動車等から排出される二酸化炭素(CO2)や温室効果ガスが環境に与える影響は甚大であり,地球温暖化防止,省エネルギー化を目指した研究開発がとても重要になっており,喫緊の課題である。 GaNは,現在半導体パワーデバイスの主流となっているシリコン(Si)に比べて,バンドギャップエネルギー及び絶縁破壊電界強度が大きく,また電子移動度が高く,優れた基礎物性を有している。そのため,GaNは低損失かつ高耐圧パワーデバイスとして,特に環境負荷軽減となるハイブリッド電気自動車(HV)や電気自動車(EV)への応用が期待されている。 GaNを用いたパワーデバイスには,様々な素子構造の研究開発が進められている1 )。その中でも,デバイス構造の特徴から縦型トレンチゲートMetal-oxidesemiconductor field-effect transistors( MOSFETs)は,チップの小型化と高速スイッチングを可能にするデバイスとして注目されている。トレンチゲートという名称の通り,GaNウェーハ表面に,幅・深さが1 μm程度の溝(トレンチ)を形成することで,デバイスのオンオフのスイッチング動作を行うゲートとして機能させる。 トレンチは,エッチング工程により形成される。その側壁はデバイス動作時に反転層として電子が流れる経路となる。そのため,垂直性及び側壁表面の平坦性が良好なトレンチを形成するエッチング技術は,特にチャネル移動度というデバイス評価指標を向上させるための必須の技術となる。また,トレンチ形成の際に導入されるGaNへのダメージの低減も重要な課題である。 本報告では,GaNトレンチ形状制御と低ダメージ化に向けた最近のアルバックの取り組みと得られた成果を紹介する。 (※この記事は、2021年4月発行のテクニカルジャーナルMo.84に掲載されたものです。) 記事の続きは下記URLよりアルバックテクニカルジャーナルに ユーザ登録するとご覧いただけます。 https://www.ulvac.co.jp/r_d/technical_journal/tj84j/ 文 献 1) T. Kachi: Jpn. J. Appl. Phys. 53, 100210( 2014).

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