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イオンビームミリングとはイオンビームで膜の凸部分を削り平坦化する技術です。
イオンビームミリングは主に高周波フィルタ（Bawフィルタ、SaWフィルタ）のプロセスで使われます。
高周波フィルタは5G通信を行う上で必要なデバイスとなり、5G対応のデバイスには20-40個近いフィルタが搭載されています。
高周波フィルタの製造工程ではフィルタ上に成膜された窒化膜、酸化膜の均一性が重要になります。CVD等で均一に成膜された膜でも原子レベルで見ると、凹凸があります。これらの凹凸部分を平坦化することがイオンビームミリングの役割です。
凸部分に細くしたビームを当てて局所的に削ることで平坦化を行います。
イオンビームミリングで実現する平坦度は関東一円150kmで1mmの凹凸しかない平坦度となります。
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