イオン注入装置
Model： IMX-3500
最大エネルギー200kV、ウェーハサイズΦ200mmまで対応可能なイオン注入装置で、大学などでの研究開発に最適です。
特長
- イオン源は、B、P、Asなどのイオン生成にガスソースのほか、安全上の取扱が容易な固体蒸発源も使用可能
- HVターミナル部分は、量産装置と同じ構成になっており、高い信頼性を確保
- 最大ウェーハサイズはΦ200mmで、不定形基板にも対応したプラテンを搭載
用途
- 研究開発から少量生産用
- MEMS
仕様
| Model | IMX-3500 |
| 基板サイズ | 最大Φ150(Φ200、不定形基板にも対応) |
| エネルギー | 30～200keV（オプションで3～200keV対応） |
| 最大ビーム電流 | 11B+ 400μA（200keV) |
| 31P+ 600μA（200keV) | |
| イオン種 | B、P、As、Si、Ge、Sb、In 他 |
