蒸着装置
Model： ei-5、EVD-600LP
バッチ式蒸着装置には、研究開発から少量生産向けの汎用的なModel： ei-5と、リフトオフプロセス向けの量産用Model: EVD-600LPがあります。これらの装置は、基板上に金属や酸化物を成膜するために設計されており、操作パネルから集中的に制御することで、排気操作や成膜操作を自動で行うことができます。
特長
Model： ei
- 多様な蒸発源（EB、抵抗、EB＋抵抗）を搭載可能
- プロセスに応じた基板ホルダ（リフトオフ、プラネタリ、サテライトetc.）
- PCによる優れた操作性・機能（レシピ機能、データロギング、メンテナンスアシスト機能）
- Φ50～Φ200mm、矩形基板、Si、化合物、ガラス、セラミックなど、各種基板に対応
Model： EVD
- リフトオフ性能の改善により、より多くの基板を搭載可能
- 多様な蒸発源（EB、抵抗、EB＋抵抗）を搭載可能
- PCによる優れた操作性・機能（レシピ機能、データロギング、メンテナンスアシスト機能）
- Φ50～Φ200mm基板、矩形基板、Si、化合物、ガラス、セラミック各種基板に対応
用途
- パワーデバイスなどの化合物関連
- LED、LD、高速などデバイス
- 各種実験用
- その他電子部品全般
仕様
| Model | ei-5 | EVD-600LP |
| 基板ホルダ | 公転、プラネタリ、サテライト | プラネタリ |
| SS距離 | 680mm | 730mm |
| 入射角 | 4.3° Φ100mm 6.4° Φ150mm |
約4° Φ100mm 約6° Φ150mm |
| 蒸発源 | EBガン、抵抗加熱 | |
| 標準排気系 | 16" クライオポンプ | |
