PE-CVD装置
Model： CMD
SiH4やTEOSなどを用いたa-Si膜、シリコン酸化膜、窒化膜成膜用マルチチャンバー式PE-CVD装置です。
特長
- 高温プロセスに対応した高信頼性搬送システム
- 長期間にわたる安定した成膜レートの実現
- 高温対応（Max 550℃）&良温度分布のアニール室
用途
- 高精細ディスプレイ用TFT
- タッチセンサーパネル
仕様
| Model | G4.5 | G5.5 | G6 | |
| CMD-950 | CMD-1500HT | CMD-1800HT | ||
| 基板サイズ（mm） | 730 × 920 | 1300 × 1500 | 1500 × 1850 | |
| 部屋構成 | 1) 仕込/取出室 | 2室 | 1室（1ボート2段タイプ） | |
| 2) 加熱室 | 1室 | |||
| 3) 搬送室 | 1室 | |||
| 4) 反応室 | 最大 5室 (加熱室設置の場合 4室) |
最大 6室 (加熱室設置の場合 5室) |
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| 真空排気系 | ドライポンプ＋メカニカルブースターポンプ | |||
| 基板移載システム | 真空ロボット (2段 アーム） | |||