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スパッタリング装置

Model: SMV

PLP実装のシード層 (Ti/Cu) 形成に使用するスパッタリング装置として、優れたコストパフォーマンスを実現しています。

特長

  • 反転機構により両面成膜に対応が可能
  • 低温成膜と高い生産性
  • 薄基板に対応した基板保持機構
  • 高い密着性
  • 縦型固定成膜方式
  • 500mm□~600mm□基板に対応

用途

  • パネル実装

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