乾燥炉 AMF-1000 ACF-500 ASF-500|その他|製品紹介|アルバック
その他

乾燥炉AMF-1000
ACF-500
ASF-500

アルバックの真空乾燥炉は、HVからUHVの圧力領域でクリーンな環境下での脱ガス、前処理用途や、部品表面に付着した物質を真空アニールにて清浄化させる再生処理用途に適応した装置です。

特長

  • 横扉方式を採用し、メンテナンス性を重視した設計
  • 1m×1mパネルサイズ10枚を同時に熱処理可能
  • 再生時に放出されるガスを除去するためのトラップを装備
  • 昇温、冷却時の温度分布を大面積で均一に制御可能
  • 標準装置で10-6Paの到達圧力、さらに10-7PaのUHV仕様のアニール炉を提供します。

用途

  • 真空部品再生処理用
  • カラーフィルター前処理、小型パネルアニール用
  • SEM用部品UHV脱ガス用
  • 半導体用部品洗浄後脱ガス用

仕様

AMF-1000 ASF-500 ACF-500
到達圧力 7 × 10-6 Pa 7 × 10-6 Pa 7 × 10-6 Pa
排気系 クライオポンプ、
TMP+RP選択可能
加熱範囲 1000mm × 1000mm × 40H × 10枚 500Φ×500L
基板加熱温度 MAX450ºC MAX350ºC MAX450ºC
温度分布 450ºC±10ºC 350ºC±10ºC 450ºC±10ºC
加熱方式 内熱方式 外熱方式 内熱方式

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