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複合プロセス装置

Model:LX-200

二次電池向けにリチウム蒸着と、各種材料のスパッタリングが可能な成膜装置です。開発現場でお使いいただけます。

特長

  • リチウム蒸着前後でIn-situ環境でスパッタリングが可能
  • 省スペース設計
  • 成膜材料に合わせたDC、RF電源が選択可能
  • 200mm□サイズの基板に成膜可能

用途

  • 二次電池材料開発

仕様

Model LX-200E LX-200S LX-200ES
基板サイズ Max 200mm□
成膜エリア Max 180mm□
装置構成 1)仕込/取出室 1室 1室 1室
2)搬送室 1室 1室 1室
3)蒸着室(るつぼ、デポアップ) 1室 - 1室
4)スパッタ室(デポアップ、最大4カソード) - 1室 1室

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