複合プロセス装置
Model：LX-200
二次電池向けにリチウム蒸着と、各種材料のスパッタリングが可能な成膜装置です。開発現場でお使いいただけます。
特長
- リチウム蒸着前後でIn-situ環境でスパッタリングが可能
- 省スペース設計
- 成膜材料に合わせたDC、RF電源が選択可能
- 200mm□サイズの基板に成膜可能
用途
- 二次電池材料開発
仕様
| Model | LX-200E | LX-200S | LX-200ES | |
| 基板サイズ | Max 200mm□ | |||
| 成膜エリア | Max 180mm□ | |||
| 装置構成 | 1)仕込/取出室 | 1室 | 1室 | 1室 |
| 2)搬送室 | 1室 | 1室 | 1室 | |
| 3)蒸着室（るつぼ、デポアップ） | 1室 | - | 1室 | |
| 4)スパッタ室（デポアップ、最大4カソード） | - | 1室 | 1室 | |