VASSCAA-13 & KVS 2026にて招待講演を行います

デバイスの微細化が物理的・経済的な限界に近づく中、低ダメージで高精度なパターニングや界面制御を実現するプラズマプロセスの重要性が高まっています。本講演では、プラズマ源の選択と装置最適化によるアルバックの高密度プラズマ設計をご紹介します。DCマグネトロンによる高アスペクト比スパッタ成膜、ラジカル下流を重視したSWP（必要に応じてCCP併用）によるマイルドな異方性デスカムと接合前活性化、さらにNLDによる低圧・低Teの高速・低ダメージ加工を取り上げ、CPO向けフォトニクス構造への適用例を示します。

磁気スキルミオンは、熱揺らぎによってランダムに動く性質を持ち、低消費電力の情報処理への応用が期待されています。本講演では、このブラウン運動を電圧で制御するスキルミオンデバイスを紹介します。熱エネルギーを利用してスキルミオンの運動を制御することで、ゼロまたは極めて小さなエネルギーで動作する新しい情報処理デバイスの可能性を示します。