アルバックグループは、11年ぶりに再開されたJVIA表彰において3件の表彰を受けました。真空技術は、半導体をはじめとする多くの産業の基盤であり、技術革新がますます求められています。この表彰制度では真空産業に従事し、多大な貢献をした技術、開発、製造、サービス、営業等の各分野が対象です。表彰式は、5月28日に行われました。
真空装置部門賞
ストレスコントローラブル高密度TiN膜成膜モジュール『ULTiNA』
（株）アルバック 半導体装置事業部 中野 賢明、平松 大典、先進研 沼田 幸展
真空コンポーネント・部品・材料部門賞
高精度流量制御
アルバック機工（株） 開発部 鈴木 佐智恵
イノベーション賞
スマートフォン対応ピラニ真空計SWU10-U
（株）アルバック 規格品事業部【UL-MOBI】
宮下 剛、西巻 武輝、照井 敬晶、佐藤 貴伸、桑谷 淳、福原 万沙洋
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