アルバックの研究開発
真空技術をコアとした
イノベーションの
創出・共創の推進
開発方針
ULVACは、真空技術をコアとして、持続可能な社会の実現に貢献する革新的な研究開発を推進しています。近年、世界各地で先端半導体や電子デバイス分野への開発投資が加速する中、私たちはお客様との共創を最も重要な要素と考えています。その取り組みを推進する中核的な役割を担うのが開発本部です。
開発本部は、先進技術研究所と未来技術研究所の二つの組織で構成されています。先進技術研究所では、各種装置の高機能・高信頼性・高生産性を追求し、革新的な次世代製造技術の実現に向けた開発を進めています。未来技術研究所では、次世代技術として期待されるテーマや真空技術の新たな応用分野に挑戦しています。
これらの取り組みは、関連部門やグループ会社との緊密な連携のもとで戦略的に推進されており、研究開発資源の最大活用と成果の最大化を目指しています。
主な重点分野
ULVACは、ロジック、メモリ、パワーデバイスなどの半導体分野における技術強化に注力しています。ロジックおよびメモリ分野では、最先端ロジック分野で培ったMetal Hard Mask工程の実績を基に、他工程への展開や成膜プロセスの性能向上に取り組んでいます。また、メモリの微細化や高積層化の進展に対応し、DRAMおよび3D NANDフラッシュメモリ向けの新たな工程参入を目指して、装置および成膜プロセスの開発を加速しています。さらに、省エネルギー社会の実現に貢献するパワーデバイス分野では、イオン注入装置の開発を強化しています。
先端半導体製造の高度化が進む中で、お客様との緊密な共同開発がこれまで以上に重要になっています。ULVACは、このような共創を通じて新たな技術価値を生み出し、グローバルな技術発展に貢献していきます。
ULVACのグローバル
研究開発拠点
