溅射设备
Model：uGmni-300S
这是一款可根据核心形状配置最多6个工艺腔室。它主要应用于功率器件、光电器件和射频器件领域。
特长
- 适用于各种应用程序
- 最大支持Φ300基板
用途
以下是用途例。
- 功率器件 种子&金属溅射膜形成
- MEMS传感器 PZT成膜与刻蚀
- 光学器件 VCSEL 加工刻蚀
- 高密度封装 Descum灰化
- 通信器件 绝缘膜沉积&加工PE-CVD
