溅射装置
Model：uGmni-300S
这是一个多室型溅射系统，根据芯体形状的不同，最多可配备六个工艺腔室。它主要用于功率器件、光学器件和射频器件的制造。
特性
- 适用于各种应用程序
- 最大支持Φ300基材
用途
以下是一个例子。
- 功率器件种子和金属层形成溅射
- MEMS传感器PZT成膜与蚀刻
- 光学器件VCSEL 处理蚀刻
- 高密度镶嵌除渣灰化
- 通信器件绝缘膜沉积及加工PE-CVD
