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高いエッチングレート、下部電極の掘れ量最小化、長期間メンテナンスフリーを実現する圧電膜向けエッチング技術を紹介します。
不揮発エッチングの課題
ハード面
・容易にチャンバ内壁に着膜して しまいプラズマ不安定に繋がる。
・分布悪化
プロセス面
・メタル、圧電膜がエッチング側壁に再付着
・下部電極との選択比
AlScNのエッチングプロファイル(Φ200mmウェハ）
側壁への着膜無し、下部電極へのオーバエッチング無し
AlScN終点検知の安定性
高いエッチング分布
異なるSc含有量のAlNでも±3%のエッチング分布を実現
高いメンテナンス性
