2025年10月13日、茅ヶ崎市役所で開催された「第2回青少年フェスティバル 子どもふれあいまつり」に参加しました！ 今年で2回目となるこのイベントは、「日本宇宙少年団茅ケ崎分団」や「ちがさき宇宙フォーラム」などが中心となって運営されており、 子どもたちがのびのびと交流できる新しい形のフェスティバルとして企画されています。 会場となった茅ヶ崎市役所の庁舎内では、ダンスやチアリーディング、一輪車、縄跳びなど、 元気いっぱいのパフォーマンスが次々と披露され、たくさんの観客でにぎわいました。 私たち ULVAC（アルバック） も、昨年に続き「真空実験ブース」を出展！ 子どもたちが目を輝かせながら実験に参加する姿に、スタッフ一同とても嬉しくなりました。 実は、日本宇宙少年団茅ケ崎分団の初代団長は、当社の第3代社長・林主税氏。 そんなご縁もあり、私たちはこのイベントを大切にしています。 来場者の中には、「先日サッカーの試合でグラウンドをお借りしました。また来月もアルバックに行きます」と 声をかけてくださる親子や、「ULVAC Festivalのポスター見ました！楽しみにしています！」と話してくださる地域の方もいて、 地域とのつながりを改めて感じる一日となりました。 今後も、教育委員会と連携しながら青少年の育成に貢献し、地域との絆を深めていきたいと考えています。

富士裾野工場、使用電力を実質すべて再生可能エネルギーに！ 2025年7月から、当社の富士裾野工場で使う電気が、実質的にすべて再生可能エネルギー（再エネ）由来のものになりました。 再生可能エネルギーとは、太陽光や風力など、自然の力を使って作られる電気のこと。環境にやさしく、地球温暖化の原因となるCO2の排出を減らすことができます。 どうやって実現したの？ 今回の切り替えは、東京電力エナジーパートナー株式会社が提供する「オフサイトコーポレートPPA」という仕組みを使っています。これは、工場の敷地外にある太陽光発電所で作られた電気を、一般の電力網を通じて工場に届ける契約のことです。 この仕組みを使うことで、年間約3,200メガワット時（MWh）もの再エネ電力を安定的に調達でき、約1,300トンものCO2排出を減らすことが見込まれています。 さらに、再エネ電力証書という環境価値の証明書も購入しているため、富士裾野工場で使う電気は「実質的に100％再生可能エネルギー由来」と言えるのです。 再生可能エネルギーのメリットって？ 環境にやさしいCO2の排出を減らし、地球温暖化の防止に貢献します。 電気代の安定再エネは価格が安定しているため、電気代の急な高騰リスクを減らせます。 企業価値の向上環境に配慮した取り組みは、社会からの信頼や評価を高めます。 今後の取り組み 当社は、2030年までに温室効果ガス排出量を2023年比で50％削減し、2050年には実質ゼロを目指しています。富士裾野工場だけでなく、九州工場でも太陽光発電設備を稼働させるなど、国内外で再生可能エネルギーの導入を計画的に進めています。 これからも持続可能な社会の実現に向けて、環境にやさしいエネルギーの活用を推進していきます。 用語解説 オフサイトコーポレートPPA 工場の敷地外にある再生可能エネルギー発電所から電気を購入し、一般の電力網を通じて供給を受ける契約のこと。 敷地内に発電設備を設置するよりも多くの再エネを安定的に調達できます。 再エネ電力証書 電気そのものとは別に、再生可能エネルギーで作られた電気の環境価値を証明する証書のこと。 これを購入することで、実質的に再エネ由来の電力を使っていると認められます。 これからもアルバックは、環境にやさしい技術と取り組みを通じて、みなさまと一緒に持続可能な未来をつくっていきます。 応援よろしくお願いします！

2025年7月26日（土）、やどりき水源林＊１にて、当社が取り組む森林再生プロジェクト＊２が開催されました。今回は従業員とそのご家族、総勢25名が参加し、自然とふれあいながら学びと体験を深める一日となりました。 森林が育む「水のちから」を体験 活動の中心となったのは、「水源涵養（かんよう）機能」を学ぶ実験です。これは、森林が雨水を蓄え、ゆっくりと地中に浸透させることで、川や地下水の水量を安定させる働きのこと。実験では、荒れた森林と保全された森林を模したキットに水を流し、流れ方や水の色・量の違いを観察しました。 子どもから大人まで、目で見て体験することで、森林が私たちの生活を支えていることを実感。水不足や洪水といった問題が、森林の状態と密接に関係していることを学びました。 汗を流して、森を守る 実際の間伐作業にも挑戦。枝打ちや間伐は、森林の健全な成長を促すために欠かせない作業です。参加者の皆さんは汗をかきながらも、達成感に満ちた表情で作業を終えました。 清流に生きる命との出会い 寄沢の清流では、水生生物の観察も行いました。インストラクターの解説を受けながら、「きれいな水」に生息するサワガニやカジカを実際に観察。水質と生物の関係を学ぶ貴重な機会となりました。 夏の思い出と、未来への一歩 昼食後にはスイカ割りも行われ、子どもたちの笑顔があふれるひとときに。暑い日ではありましたが、森林の心地よい風の中で過ごした時間は、夏休みの楽しい思い出となったことでしょう。 私たちは、こうした活動を通じて、次世代に豊かな自然環境を引き継ぐことを目指しています。今後も従業員の皆さんとともに、森林保全に積極的に取り組んでまいります。 参考情報 ＊１）やどりき水源林 神奈川県松田町寄に広がる約529haの森林で、神奈川県が管理し、公益財団法人かながわトラストみどり財団が運営協力しています。 水源涵養や自然体験の場として県民に親しまれています。 ＊２）森林再生プロジェクト 本社・工場が立地している神奈川県の森林は、全国平均に比べて非常に少ない数値となっています。 神奈川県では、水源林の役割を持つ森林の豊かな恵みを次の世代に引き継ぐための整備活動が行われています。 この取り組みに賛同し、神奈川県が推進する「森林再生パートナー」制度に2022年6月から参画しています。 本制度による森林整備を通して算定されるCO₂吸収量は、5年間で247tになります。 地球にやさしく持続可能な社会づくりに貢献するという2050年にありたい姿の実現に向けて、環境活動に取り組んでいます。

エッチングとは、半導体製造工程において半導体上の不要部分の薄膜を加工する技術である。薄膜上のマスクのパターンを転写することであり、マスクに覆われていない部分の薄膜を一部または全部除去する工程のことを指す。 ドライエッチングでは、一般的に誘導結合プラズマ (ICP, Inductively Coupled Plasma) や容量結合プラズマ (CCP, Capacitively Coupled Plasma) などの真空放電プラズマを用いる。 エッチング対象物に対して反応性を有するガスのプラズマを生成し、処理基板にバイアスを印加することでプラズマ中の反応性イオンを基板表面に引き込み、エッチングを促進する。反応性イオンエッチング (RIE, Reactive Ion Etching) とも呼ばれる。より速く異方性をもってマスクのパターンを薄膜に転写できる。そして、薄膜材料 (固体) を化学反応によって気体として排気するため、真空容器中への薄膜元素の蓄積を抑制でき、エッチングの長期動作安定性が高い。それらの特徴によって、半導体・電子部品の製造工程で重要な役割を果たしている。 エッチング装置の紹介はこちら 意外と知らない真空用語解説一覧

光学多層膜はガラスや樹脂，金属などの基材に数種類の屈折率の異なる材料を交互に形成することで特定波長の光を透過・反射する機能をもたせた薄膜である（Fig.1）。かねてよりレンズの反射防止膜や増反射ミラーなどで使用され，光学フィルタやハーフミラーなど応用例は多岐にわたる。 光学薄膜の原理 また，近年では3D顔認証用のセンサー，距離計測用のLiDAR（Light Detection and Ranging），生体認証などのデバイスにも光学薄膜が活用されている。これらのデバイスではFig.2に示すように，光源から特定の波長の光を対象物に照射し，対象物から反射してきた特定波長の光のみを検出するため，BPF（Band Pass Filter）が用いられている。特に，顔認証用途の近赤外BPFは，広い視野角にわたって信号損失を少なくするため，対象物からの反射光が大きな角度で入射した場合でもBPF透過帯の中心波長のオフセット量が小さく，高透過率のものが求められる。 BPF（バンドパスフィルター）の原理 そのため，これまで主に使用されてきた高屈折率成膜材料のTa 2 O 5 ，Nb 2 O 5，TiO 2に比べて，近赤外波長領域での屈折率が高く可視光波長領域を吸収する特性をもつ水素化アモルファスシリコン（a-Si:H）を使用したBPFが注目されている1 ）。a-Si:Hを使用することでBPFの膜層数，膜厚の低減が可能となり生産性の向上が期待される。 また，Fig.3に示すようにスマートフォンのカメラモジュールなどは，従来レンズや光学フィルタなどの光学部品とCMOSなどの半導体部品を別々に製造後，モジュールとして組み立てを行っていたが，今後ウェーハレベルで各部品を作製，貼り付けを行った後にカットするWLO（Wafer Level Optics）と呼ばれる製造方法が主流になると言われている。そのため，φ200 mm，φ300 mm ウェーハへの対応，品質面においても従来より低パーティクル装置・ハンドリング管理の対応が求められる。光学膜の成膜方法としては蒸着が用いられてきたが，光学膜の用途が広がるにつれ膜厚制御性や面内分布の要求がより高度になり，スパッタ法による光学膜の成膜に注目が集まっている。 光学デバイスの製造プロセス 記事の続きは下記URLよりアルバックテクニカルジャーナルに ユーザ登録するとご覧いただけます。 https://www.ulvac.co.jp/r_d/technical_journal/tj84j/

本研究は，文部科学省『省エネルギー社会の実現に資する次世代半導体研究開発』事業JPJ005357ににおける名古屋大学殿の協力機関としての成果が含まれる。本事業では，次世代半導体材料として有望な窒化ガリウム（GaN）に関して，材料創製からデバイス動作検証・システム応用までの研究開発を一体的に行う研究開発拠点を構築し，理論・シミュレーションも活用した基礎基盤研究を実施することにより，実用化に向けた研究開発を加速することを目的としている。 GaNパワーデバイスの低ダメージドライエッチング技術 近年の飛躍的な科学技術の進歩に伴い，エネルギー消費量は世界的にますます膨大になっている。一方で，エネルギー発電やガソリン自動車等から排出される二酸化炭素（CO2）や温室効果ガスが環境に与える影響は甚大であり，地球温暖化防止，省エネルギー化を目指した研究開発がとても重要になっており，喫緊の課題である。 GaNは，現在半導体パワーデバイスの主流となっているシリコン（Si）に比べて，バンドギャップエネルギー及び絶縁破壊電界強度が大きく，また電子移動度が高く，優れた基礎物性を有している。そのため，GaNは低損失かつ高耐圧パワーデバイスとして，特に環境負荷軽減となるハイブリッド電気自動車（HV）や電気自動車（EV）への応用が期待されている。 GaNを用いたパワーデバイスには，様々な素子構造の研究開発が進められている1 ）。その中でも，デバイス構造の特徴から縦型トレンチゲートMetal-oxidesemiconductor field-effect transistors（ MOSFETs）は，チップの小型化と高速スイッチングを可能にするデバイスとして注目されている。トレンチゲートという名称の通り，GaNウェーハ表面に，幅・深さが1 μm程度の溝（トレンチ）を形成することで，デバイスのオンオフのスイッチング動作を行うゲートとして機能させる。 トレンチは，エッチング工程により形成される。その側壁はデバイス動作時に反転層として電子が流れる経路となる。そのため，垂直性及び側壁表面の平坦性が良好なトレンチを形成するエッチング技術は，特にチャネル移動度というデバイス評価指標を向上させるための必須の技術となる。また，トレンチ形成の際に導入されるGaNへのダメージの低減も重要な課題である。 本報告では，GaNトレンチ形状制御と低ダメージ化に向けた最近のアルバックの取り組みと得られた成果を紹介する。 (※この記事は、2021年4月発行のテクニカルジャーナルMo.84に掲載されたものです。) 記事の続きは下記URLよりアルバックテクニカルジャーナルに ユーザ登録するとご覧いただけます。 https://www.ulvac.co.jp/r_d/technical_journal/tj84j/ 文　献 1） T. Kachi: Jpn. J. Appl. Phys. 53, 100210（ 2014）．

ガス種・流量比、プロセス圧力、RFパワー等のプロセスパラメータ最適化は、エッチングレート・選択比・加工形状といった項目だけでなく、面内分布にも影響します。したがって、プロセスによる分布追求には、他の項目とのトレードオフが発生します。 分布追求をプロセスではなく、ハードで行う場合、アンテナ構造や電極間距離の最適化で対応可能ですが、装置仕様を決めてしまうため、トレードオフの関係は解消されません。 ULVACが提案する新プラズマ源「ISM-duo」ならプロセスパラメータそのままに、分布のみ最適化可能です。 新プラズマ源「ISM-duo」の特徴 従来のISMプラズマ源が持つ高密度プラズマの特徴に加え、ISM-duoプラズマ源はRFパワー分配ユニットを搭載しています。内・外周のICPアンテナへ　任意にRFパワーを分配することで、エッチング面内分布の制御が可能になります。 ※ISM：ICP with Static Magnetic field duo：distribution uniformity optimizable ISM-Duoコンセプト エッチング面内分布最適化の一例 （プロセスパラメータ同条件下での比較）

半導体パッケージ（実装）分野でよく使われる略語/用語の一覧です。 単語 正式名称 内容 A ABF Ajinmoto build-up film 味の素ファインテクノ製のBuild-up film。業界シェアが100%に近い。 AM Acoustic Microscopy 超音波顕微鏡 AiP Antenna in Package アンテナとRF chipを同一に実装する方法 AP / アプリケーションプロセッサー Application processor 通信通話以外のオペレーション以外の動作を行うデバイス アクセラレータ サーバーの処理能力を向上させるツール B BEOL Back end of line 半導体チップに配線を形成する工程 BGA Ball grid array パッケージ裏面にSolder bumpを格子状に規則的に並べた構造 Bridge 微細パターンが形成されたSi bridgeによって、ChipとChipを接続した実装方法。Si interposerをLocalに導入した実装方法。 Build-up配線 Build-up配線を用いた配線。基板の配線層に用いられる。 Build-up film Build-up配線に用いられるフィルムで、樹脂とシリカフィラーの混合材料からできている。 C カーボンニュートラル 温室効果ガスの「排出量」から、植林などによる「吸収量」を差し引いて、合計を実質的に"ゼロ"にすること。 Cavity flame core PoPの上側と下側を繋ぐMetal配線が形成された積層基板　Samsungの技術 CCD core complex die CCD CPU compute die CF Chip first Fan-Out工程で、Chipを先にMountし、後でRDLを作製する方法 Cube Samsungの2.5D実装の呼称 Chip First Fan-Outで、チップを先に仮固定ウエハして再配線を形成する手法 Chip Last Fan-Outで、再配線層を先に形成して、チップを固定する手法 Chiplet 半導体チップをそれぞれ製造して、後から配線ロスが極力減るように組み合わせる技術 CL Chip last Fan-Out工程で、RDLを先に形成し、後でChipをMountする方法 CMOS complementary metal oxide semiconductor Co D2W Collective die to wafer CoW Chip on Wafer CoWoS Chip on Wafer on Substrate tsmcの2.xD実装技術の呼称 CoWoS-S tsmcの2.5D実装技術の呼称　Si interposerを使用。 CoWoS-R tsmcの2.1D実装技術の呼称　Organic interposerを使用。 CoWoS-L tsmcのBridgeを用いて2.xD実装　Local Si bridgeを使用。 COP Co-packaged Optics フォトニクス装置と電子スイッチを1つのパッケージにまとめ、信号の高速化や消費量削減や熱効率低減を目的としたパッケージ技術 CPU central processing unit 周辺機器などからデータを受け取り制御・演算を実施するデバイス CSP Chip Size Package 半導体チップの大きさと同等レベルのパッケージ D データセンター サーバーやネットワーク機器を設置するために特化した建物 DB Debonding 基板接着されたチップ、または、接合されたウエハから、チップまたはウエハを剥離すること DBG Dice before grind DBHi direct bonded heterogeneous integration IBMのBridge構造　ChipにBridgeを先に接続し、基板へ搭載 DBI direct bond interconnect Descum フォトリソ工程後の残渣をScumと呼び、除去する工程をDescumという。 Desmear レーザードリル工程後の残渣をSmearと呼び、除去する工程をDesmearという。 DTC Decoupling capacitor 再配線層のノイズを目的としたSi Viaに形成されたCapacitor。 DP D2W Dilect placement die to wafer E ECD Electrochemical deposition 電界めっき工程 EFB Elevated Fan-Out Bridge AMDのFan-OutとBridgeを組み合わせた実装構造 EFI embedded fine interconnect IMEのBridge構造 EMIB Embedded Multi-Die Interconnect Connect Bridge IntelのBridgeを用いた実装方法。基板にBridgeを埋め込み、その後チップの搭載を行う。 F Fabless 自社で製造ラインを持たず、FoundryまたはOSATに生産委託しているメーカー Face up Fan-Outの工程で、Padを上向きに搭載し実装する方法　InFOはChip firstのFace up工法 Face down Fan-Outの工程で、Padを下向きに搭載し実装する方法 FAB Fast atom beam 高速電子ビーム FCBGA Flip chip ball grid array Flip chipを用いたBGA FEOL Front end of line 半導体チップのウエハ上に素子を形成する工程 FI Fan-In WLPの別名。Fan-Outに対する呼び方。 FO Fan-Out 半導体チップに対して、取り出し口が広がっている構造。チップに対してBump数を増加することができる。 FOCoS Fan-Out Chip on Substrate ASEのTSV less Heterogeneous integration FOEB Fan-Out Embedded Bridge SPILのBridgeを用いたFan-Out製品。 FOD Film over die FOPoP Fan-Out Package on Package Fan-Outのパッケージの上に異なるデバイスを搭載すること。 Foverous Intelのチップの積層技術 Foverous-Omni Intelのチップの積層技術　はんだBump-はんだBump Foverous-Direct Intelのチップの積層技術　Cu-Cu Foundry 半導体チップの製造を請け負うメーカー FC Flip chip 半導体チップを切り出して、反転（Flip）して実装する方法 G GAFA 米国のIT関連企業大手4社の頭文字をとった造語　Google, Apple, Face book, Amazon GPU graphic processing unit 画像処理に特化した演算を実施するデバイス GX グリーントランスフォーメーション 太陽光発電や風力発電といったグリーンエネルギーへの転換により、産業構造や社会経済を変革し、成長につなげること H Homogeneous integration 同種のチップを同一配線層で接続する実装方法 Heterogeneous integration 異種のチップを同一配線層で接続する実装方法 HAZ heat affected zone HDI High density interconnect HPMJ high-pressure microjet HPC High performance computing HBM High Bandwidth Memory DRAMが積層されたメモリー HMC Hybrid memory cube Hybrid bonding Bumpレス直接接合技術。Cu-Cuと絶縁膜-絶縁膜の直接接合。 Hybrid bonding Collective 仮固定ウエハを用いたHybrid bonding / アライナーで位置合わせする。 Hybrid bonding Suquential Die bonderを用いたHybrid bonding I IDM Integrated Device Manufacturer 設計・製造・組み立て・検査・販売を一貫して自社で行えるデバイスメーカー IMT / 挿入実装 Insertion Mount Technology プリント基板の内部にデバイスを実装する方法 I/O Input / Output Interposer 2.xD実装で使われるシリコンダイと樹脂基板間の配線基板 InFO Integrated Fan-Out tsmcのFan-Out技術の呼称 InFO oS InFO (assembly) on Substrate 複数のChipをRDLで並列に繋ぎ、基板へ接続するInFO製品。 InFO B InFO PoPの下側だけの状態。OSATの方で、上側のデバイスを接続する。 i-THOP integrated Thin film High density Organic Package 新光電気の2.3Dパッケージ基板 アイソップ J JIEP 実装エレクトロニクス実装学会 K L LAB Laser Assisted Bonding レーザーによってチップまたはウエハを基板に接着する工程 LAL light absorber layer LDB Laser debonding レーザーによってチップまたはウエハを基板から剥離する工程 LDI Laser direct image LG Laser groove Lead 樹脂から露出している外部配線 LF lead flame 半導体チップを支持・固定する役割をに担う、パッケージから露出している複数の外部接続端子 M メタバース 自分のアバターを作成し行動することができるインターネット上の仮想空間 MCM Multi chip module チップを複数個搭載したモジュール MIMO Multiple Input and Multiple Output 送信機と受信機の双方で複数アンテナを用いる送受信技術 Mooreの法則 ムーア氏が発表した「半導体回路の集積密度は1年半～2年で2倍となる」という経験則 More Moore スケーリングによらない、トランジスタの性能向上　（立体構造化など） More then Moore 異種デバイスを集積して高性能化すること　→ SoC ＆ SiP N O oS on Substrate CoWをSubstrateに載せる工程 OSAT Out Source Assembly and Test 実装工程の製造を請け負うメーカー P プロセスノード 一般的にトランジスタMOSFETのゲート配線の"幅"、または"間隔"を指す PDB Photonic debonding PoP Package on Package パッケージの上にパッケージを積層させること。パッケージを重ねることでデバイス内のパッケージの占有面積を減らす。 PP Prepreg プリプレグ　ガラス繊維、炭素繊維などからできた織物に未硬化の樹脂を含浸した成型材料。 PPA Power, performance, and area PPAC Power, performance, area, and cost プリント基板 部品を実装するための基板。部品間を接続するための配線が基板表面と基板内部に形成されている。 PWB Printed Wired Board 部品が実装される前の配線だけされたプリント基板 PCB Printed Circuit Board 部品が実装された後のプリント基板 Q QFN Quad flat non-leaded 四角形の側面に入出力用の端子が規則正しく並んでいるパッケージ（リードはなし） QFP Quad flat package 四角形の側面に入出力用のリードが規則正しく並んでいるパッケージ R RDL / 再配線層 Re-Distribution Layer チップの入出力パッドからパッケージの入出力パッドへと信号をやりとりする高密度な配線層 S SA D2W Self assembly die to wafer SoC System on Chip １つの半導体チップ上に異なる機能を集積する技術。例えば、CPUと大容量Memory、高耐圧電源ICと低電圧CPU、などをワンチップ化。SoCの欠点は、高い歩留まりをKeepするのが困難であることと、製造工期が長い。 SoIC System on Integrated Chips tsmcのチップの積層技術。Hybrid bondingを用いたCu-Cu直接接合。 SoIS System on Integrated Substrate InFOデバイスに対して、更にFan-Outの配線層を形成。大型デバイス用。 SQB Sequential bonding each die is bonded completely before the next die is placed and bonded SSDs Solid-state drives フラッシュメモリーを用いるドライブ装置 SiP System in Package 複数の半導体チップを1つのパッケージ内に封止する技術。半導体Chipをそれぞれ作製し、実装プロセスで組み合わせる。SiPの欠点は、チップ間の配線を設けるため、SoCと比較して応答速度などで性能が低いこと。 再配線層 / RDL チップの入出力パッドからパッケージの入出力パッドへと信号をやりとりする高密度な配線層 SMT / 表面実装 Surface Mount Technology プリント基板の表面にデバイスを実装する方法 SLIM SiliconーLess Integrated Module AmkorのTSV Heterogeneous integration SLIT SiliconーLess Interconnect technology AmkorのTSV less Heterogeneous integration SWIFT Silicon Wafer Integrated Fan-Out Technologhy AmkorのTSV less Heterogeneous integration S-connect AmkorのBrigdeを使用したTSV less Heterogeneous integration S-SWIFT Substrate SWIFT AmkorのTSV less Heterogeneous integration。SWIFT構造を基板に実装する。 T TB Temporary bonding 仮固定ウエハにチップを接着する工程 TBDB Temporary bonding and debonding 仮固定ウエハにチップを接着、剥離する工程 TCB Thermo compression bonding 熱処理によって仮固定ウエハにチップをBondingする工程 TGV Through Glass Via ガラス基板に垂直に形成されたVia。 TIM Thermal inteface material 熱伝導性材料。パッケージ内の放熱を促す。 TIV Through InFO Via InFO PoPに使用されている、上下のパッケージを繋ぐためのモールド樹脂を貫通するVia。 TSV Through Silicon Via シリコン基板に垂直に形成されたVia。 U V VeCS Vertical Conductive Structures VCB Vertical Collective Bonding the first dies are picked, aligned and bonded at low temperature for a very short time.Only after attaching the last die, a complete TCB profile is applied to the multilayer stack. W WB Wire bonding 信号の取り出し口がBumpではなく、Wireを用いた実装方法 WLCSP Wafer Level Chip Size Package ウエハプロセスで再配線層からダイシングまでを実施する工程 WLP Wafer Level Package ウエハのまま必要な再配線や封止、Bumpの搭載などを行い、個片化するプロセス WoS Wafer on Substrate WoW Wafer on Wafer X XDFOI X-Dimensional Fan-Out Integration J-CETのTSV less WLP technology Y Z 2 2D実装 チップとチップを配線基板で繋ぐ実装方法。 2.xD実装 チップと樹脂基板の間に配線基板を用いる実装方法。配線基板のことをインターポーザーと呼ぶ。 2.1D実装 2.xD実装で、インタポーザーに、有機基板を使った場合の呼称 2.3D実装 2.xD実装で、インタポーザーに、微細パターニングフィルム+有機基板を使った場合の呼称 2.5D実装 2.xD実装で、インタポーザーに、Si基板を使った場合の呼称 3 3D実装 チップ同士を積層した実装方法 実装技術の動画による解説はこちら WLPの製造工程はこちら

InP（インジウムリン）はIII / V族半導体の一種であり、シリコンに比べて高い電子移動度と高い飽和電子速度を備えています。 バンドギャップが広く、高い動作周波数を有し、高周波デバイスに利用されています。 また、InPもGaAs同様、直接遷移型の半導体であり発光させることが可能です。InPで代表されるデバイスに端面発光レーザー（EEL）があります。光通信の分野で長く利用されてきており、主にパワーを必要とする長距離向けで使用されます。 このEELのプロセスフローの中には、100nm程度のグレーティングを形成後、MOCVDによるエピ膜の再成長を行う工程があります。グレーティング形成においては寸法精度とダメージレスが求められます。再成長膜は、その後、リッジ形成し、保護膜形成、電極付けという流れになります。なお、このリッジ形成については、近年、深掘り要求が増えており、ULVACではマスク選択比30以上で、非常に平滑な側壁と垂直性を得るエッチングプロセスを確立しています。