스퍼터링 장치
Model：uGmni-300S
코어 형상에 따라 최대 6실까지 공정실을 탑재 가능한 멀티 챔버식 스퍼터링 장치입니다. 주로 파워 디바이스, 광 디바이스 및 RF 디바이스 애플리케이션에 사용된다.
특징
- 각종 어플리케이션에 대응 가능
- ～Φ300 기판에 대응
용도
아래의 예입니다.
- 파워 디바이스 시드 & 메탈 층 형성 스퍼터링
- MEMS 센서 PZT 성막 및 가공 에칭
- 광학 디바이스 VCSEL 가공 에칭
- 고밀도 Descum 애싱
- 통신 절연막 성막 & 가공 PE-CVD
