PE-CVD设备
Model： CME
这是最适用于硅基绝缘膜、阻隔膜等成膜的量产型PE-CVD设备。采用托盘输送方式，能处理各种基板，并实现了优异的成本效益。
特长
- 支持27.12 MHz高密度等离子体工艺
- SiH 4类：支持SiO 2、SiNx、SiON、a-Si膜 TEOS类：支持SiO 2膜
- 可通过NF 3 +Ar等离子体对腔室进行清洗
- 由于采用托盘输送方式，可处理各种类型的基板及不同尺寸的基板
最大基板尺寸
型号：CME-200E 200mm□
型号：CME-400E 300×400mm□
型号：CME-500E 500mm□
用途
- 功率器件
- LED、LD和高速器件
- OLED
- 太阳能电池
- MEMS
