干法刻蚀设备
Model： NE-550EX
这是一款采用磁场ICP（ISM：ICP with Static Magnetic field）技术的干法刻蚀设备，采用单片式结构并标配Loadlock室。该机型结构紧凑，价格实惠，是专为研发用途设计的理想机型。
特长
- 借助磁场辅助，可产生比其它ICP方式更低压，更低电子温度，更高密度的等离子体，能够实现从离子刻蚀到自由基刻蚀的广泛等离子体控制
- 配备了用于防止沉积物附着在RF注入窗口上的“星形电极”。此外，由于具备加热功能，该设备的设计理念侧重于可重复性和稳定性
- 设备结构简单，易于维护
- 可以选配卡匣室，200°C基板加热 ESC平台和最终检测机构等
- 由于与面向量产线的uGmni-200E采用相同的腔室，可作为开发用途处理多种工艺
用途
- 化合物材料(LED、LD、VCSEL、高频器件、通信器件及功率器件)
- 电极加工、金属布线、有机膜、陶瓷等加工
- 适用于强介电体、贵金属、磁性薄膜等难刻蚀材料的加工
- 纳米压印、NEMS、MEMS、各种传感器
- 生物芯片、微流体器件、光子晶体等。
规格
| Model | NE-550EX |
| 基板安装 | 单片进入，卡匣 |
| 基板尺寸 | 〜Φ200 mm |
| 操作压力 (Pa) | 0.07〜6.7 |
| 平面内/平面间均匀性 | ±5% max. |
| 基板控制 | 机械吸盘、静电吸盘 |
