SiC用高温イオン注入装置
IH-860DSIC

イオン注入装置IH-860DSICは高温ESCを搭載したSiC量産用高エネルギーイオン注入装置です。

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ロードロック式 スパッタリング装置
CS-200

スパッタリング装置CS-200は、研究開発から小規模生産まで対応のロードロック式スパッタリング装置です。

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量産用ドライエッチング装置
NE-5700/NE-7800

ドライエッチング装置NEシリーズは、1チャンバーからマルチチャンバーに対応し、コストパフォーマンスを重視した拡張性あるエッチング装置です。

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アッシング装置
Luminous NA シリーズ

NAシリーズはクリティカルな次世代ウェーハプロセスからウェーハレベル実装工程まで幅広いプロセスに対応可能なウェーハサイズフリーのアッシング装置です。

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マルチチャンバ型 スパッタリング装置
SME-200シリーズ

搬送室、プロセスモジュールのバリエーション組み合わせにより、多種多様な成膜用途（Metal、PZT、BST、AlN、SiNx、Al2O3）に対応が可能なクラスター式スパッタ装置です。

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バッチ式高真空蒸着装置
eiシリーズ

高真空蒸着装置eiシリーズは、基板上に金属や酸化物を成膜するための装置です。
操作パネルから集中的制御で排気操作・成膜操作を自動で行うことができるため、研究開発および少量生産に適しています。

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イオン注入装置
SOPHI-200/260

中電流型イオン注入装置SOPHI260は、最新技術を搭載した8、6、5インチのイオン注入装置です。

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イオン注入装置
SOPHI-400

SOPHI-400は枚葉式高加速イオン注入装置です。薄ウェーハ対応可能です。

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中電流型イオン注入装置
SOPHI-30

SOPHI-30は枚葉式低加速高濃度で、非質量分離型のイオン注入装置です。薄ウェーハ対応可能です。

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