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パワーデバイス向けの製造技術ソリューションを提供します。
アルバックは、IGBTやSiCをはじめとする各種パワーデバイスの製造においてNo.1の納入実績を持っています。

SiC

Si

イオン注入装置
IH-860

イオン注入装置IH-860は高温ESCを搭載したSiC量産用高エネルギーイオン注入装置です。

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IH-860

スパッタリング装置
SMEシリーズ/CS-200

スパッタリング装置CS-200は、研究開発から小規模生産まで対応のロードロック式スパッタリング装置です。

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CS-200

ドライエッチング装置
NEシリーズ

ドライエッチング装置NEシリーズは、1チャンバーからマルチチャンバーに対応し、コストパフォーマンスを重視した拡張性あるエッチング装置です。

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NEシリーズ

アッシング装置
NAシリーズ

NAシリーズはクリティカルな次世代ウェーハプロセスからウェーハレベル実装工程まで幅広いプロセスに対応可能なウェーハサイズフリーのアッシング装置です。

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NAシリーズ

マルチチャンバ型スパッタリング装置
SMEシリーズ/SRHシリーズ/MLXシリーズ

搬送室、プロセスモジュールのバリエーション組み合わせにより、多種多様な成膜用途(Metal、PZT、BST、AlN、SiNx、Al2O3)に対応が可能なクラスター式スパッタ装置です。

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SMEシリーズ / SRHシリーズ / MLXシリーズ

高真空蒸着装置
eiシリーズ

高真空蒸着装置eiシリーズは、基板上に金属や酸化物を成膜するための装置です。
操作パネルから集中的制御で排気操作・成膜操作を自動で行うことができるため、研究開発および少量生産に適しています。

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ei-7L

イオン注入装置
SOPHI-260

中電流型イオン注入装置SOPHI260は、最新技術を搭載した8、6、5インチのイオン注入装置です。

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SOPHI-260

イオン注入装置
SOPHI-400

SOPHI-400は枚葉式高加速イオン注入装置です。薄ウェーハ対応可能です。

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SOPHI-400

イオン注入装置
SOPHI-30

SOPHI-30は枚葉式低加速高濃度で、非質量分離型のイオン注入装置です。薄ウェーハ対応可能です。

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SOPHI-30

スパッタリング装置
SRHシリーズ

裏面・実装用スパッタリング装置 SRHシリーズは、パワーデバイス、WL-CSP、UBMなどの金属成膜を行うことを目的とした量産用の装置です。

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SRHシリーズ
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