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各種マイクロセンサーから流路モジュール、光スイッチ、バイオMEMSまで、豊富なファウンドリ実績から、あらゆるMEMS製造技術に対応します。

MEMS製造プロセス

MEMS製造プロセス

スパッタリング装置
SME-200

枚葉式スパッタリング装置SME-200シリーズは、
プロセス室を複数搭載可能(最大3室の200E、最大5室の200J、および最大7室の200)なマルチチャンバー式のスパッタリング装置です。

製品詳細

SME-200

ロードロック式 スパッタリング装置
CS-200

ロードロック式スパッタリング装置CS-200は、研究開発から小規模生産まで対応のロードロック式スパッタリング装置です。

製品詳細

CS-200

バッチ式高真空蒸着装置
eiシリーズ

バッチ式高真空蒸着装置eiシリーズは、基板上に金属や酸化物を成膜するための装置です。
操作パネルから集中的制御で排気操作・成膜操作を自動で行うことができるため、研究開発および少量生産に適しています。

製品詳細

eiシリーズ

枚葉式PE-CVD装置
CME-200E/400

枚葉式PE-CVD装置 CME-200E/400は、シリコン系の絶縁膜・バリア膜等の成膜に最適な、量産用PE-CVD装置です。

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CME-200E/400/500

ロードロック式プラズマCVD装置
CC-200/400

ロードロック式プラズマCVD装置CC-200/400は、
小型で使いやすく、研究開発から生産までに対応した装置です。

製品詳細

CC-200/400

研究開発向け 高密度プラズマエッチング装置
NE-550EXM

研究開発向け高密度プラズマエッチング装置NE-550EXは、有磁場ICP(ISM=Inductively Super Magnetron)方式の高密度プラズマエッチング装置、枚葉式でLL室を標準装備し、コンパクト・低価格を実現しました。

製品詳細

NE-550EX

オプトデバイス、MEMS向け ドライエッチング装置
NLD-5700

オプトデバイス、MEMS向けドライエッチング装置NLD-5700は、磁気中性線プラズマ(NLD)源を搭載した量産用ドライエッチング装置です。
(アルバックが独自に開発した磁気中性線プラズマ(NLD)による低圧・低電子温度・高密度プラズマを搭載したドライエッチング装置。)

製品詳細

NLD-5700

アッシング装置
Luminous NAシリーズ

Luminous NAシリーズはクリティカルな次世代ウェーハプロセスからウェーハレベル実装工程まで幅広いプロセスに対応可能なウェーハサイズフリーのアッシング装置です。

製品詳細

Luminous NAシリーズ
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