PE-CVD裝置
Model： CME
這是最適合於矽基絕緣膜、阻隔膜等的沉積膜量產型PE-CVD裝置。採用托盤輸送方式，可對應多種基板，具有優異的性價比。
特性
- 支持27.12 MHz高密度等離子體處理
- 對應SiH 4類SiO 2、SiNx、SiON、a-Si、TEOS類SiO 2膜
- NF 3 +Ar等離子可用於腔室清洗
- 托盤運輸系統允許沉積膜到各種類型和基板的基板上
最大基板尺寸
型號：CME-200E 200mm□
型號：CME-400E 300×400mm□
型號：CME-500E 500mm□
用途
- 動力裝置
- LED、LD和高速設備
- OLED
- 太陽能電池
- MEMS
