溅射设备
Model： CS
单腔室溅射设备，适合从研发到中小型量产的各种场景。集成了多年的成熟工艺经验，设计简洁，容易操作和使用。
特长
- 支持多阴极堆叠溅射
- 支持数据记录
- 基板搬送能力可达Φ300mm（可保证成膜性能达到Φ190mm）
- 可通过配方控制实现自动多层成膜
- Load-lock室的托盘架最多可容纳5个托盘，托盘可通过机械手自动搬送
用途
- 适用于电子元器件的研发及小规模生产
