濺射裝置
Model： CS
從研究開發到小規模生產都適用的單腔式濺鍍裝置。利用傳統的製程資料和技術訣竅，我們重新設計了強調易用性的設計。
特性
- 支持多陰極堆疊濺射
- 啟用數據記錄
- 基板輸送能力可達Φ300mm（保證沉積膜性能可達Φ190mm）
- 配方控制允許自動多層沉積膜
- 負載鎖定室的卡式磁帶最多可容納5個托盤，可使用機械手自動搬運托盤
用途
- 面向電子零部件的研究開發及小規模生產的
