气相沉积设备
Model： ei-5、EVD-600LP
我们的批次类型气相沉积设备包括适用于研发到小规模生产的通用型ei-5型号，以及用于剥离工艺的量产型EVD-600LP型号。这些系统旨在在基材上成膜金属或氧化物薄膜，并可通过操作面板集中控制，自动执行抽真空和成膜操作。
特性
Model： ei
- 提供多种蒸发源(EB,电阻，EB+电阻)
- 用于各种工艺（剥离工艺、行星式工艺、卫星工艺等）的基材支架
- 卓越的PC易用性和功能(配方功能、数据记录和维护辅助功能)
- Φ50至Φ200mm，矩形板，Si、化合物、玻璃、陶瓷等，兼容各种基材
Model： EVD
- 提升起飞性能，可安装更多基材
- 提供多种蒸发源(EB,电阻，EB+电阻)
- 卓越的PC易用性和功能(配方功能、数据记录和维护辅助功能)
- 支持φ50～φ200mm基材、矩形板、Si、化合物、玻璃、各种陶瓷基材
用途
- 与功率器件等化合物相关
- LED、LD、高速等设备
- 各种实验用
- 其他电子零件
规格
| Model | ei-5 | EVD-600LP |
| 基材支架 | 公转、行星、卫星 | 行星 |
| SS距离 | 680mm | 730mm |
| 入射角 | 4.3° Φ100mm 6.4° Φ150mm |
约4°Φ100mm 约6°Φ150mm |
| 蒸发源 | EB枪，电阻加热 | |
| 标准排气系统 | 16英寸低温泵 | |
