干法刻蚀设备
Model：NLD-5700
搭载我司自主研发的磁中性线等离子体（NLD）源，可产生低压，低电子温度，高密度的等离子体，是专为光电器件与MEMS领域打造的干法刻蚀装置。
特长
- 标配卡匣室，通过添加对准器机构可作为量产设备使用。
- 可选配额外的刻蚀腔和灰化腔室
- 与ICP法相比，NLD法可以产生更低压、高密度、低电子温度的等离子体，从而可以加工石英、玻璃、水晶、LN、LT基板等材料
- 腔室维护简单高效
- 提供从掩模刻蚀到石英和玻璃刻蚀的一系列工艺解决方案
用途
- 光学器件（衍射光栅、调制器、光波导、光开关等）
- 凹凸型微透镜
- 光子晶体
- 流体通道（μ-TAS）创建
