干法蚀刻设备
Model：NLD-5700
该干法蚀刻设备配备了我们专有的磁中性线等离子体，该技术可为光学器件和MEMS产生低压、低电子温度、高密度等离子体。
特性
- 标准配备盒式腔室，通过添加对准器机制可作为量产装置使用。
- 可以安装额外的蚀刻室和减压室
- 与ICP法相比，NLD可以产生低压、高密度、低电子温度的等离子体，从而可以加工石英、玻璃、水晶、LN、LT板
- 易于和高效的机箱维护
- 提供从掩模蚀刻到石英和玻璃蚀刻的一系列工艺解决方案
用途
- 光学器件（衍射光栅、调制器、光波导、光开关等）
- 凹凸型微透镜
- 光子晶体
- 流体路径（μ-TAS）创建
