干法蚀刻设备

Model： NLD-570

干法蚀刻设备配备了我们专有的磁中性线等离子体可产生低压、低电子温度、高密度等离子体。

特性

与ICP法相比，NLD产生的等离子体压力较低、密度较高、低电子温度，适合于石英、玻璃、水晶、LN、LT板等的加工，可以进行形状控制和表面光滑度优异的蚀刻。
机箱维护简单、高效
提供从掩模蚀刻到石英和玻璃蚀刻的一系列工艺解决方案

用途

光学器件（衍射光栅、调制器、光波导、光开关等）
凹凸型微透镜
光子晶体
流体路径（μ-TAS）创建

产品介绍