蒸鍍設備
Model： ei-5、EVD-600LP
我們的批次蒸鍍設備包括適用於研發到小規模生產的通用型ei-5型號，以及用於剝離製程的量產型EVD-600LP型號。這些系統旨在在基板上沉積膜金屬或氧化物薄膜，並可透過操作面板集中控制，自動執行抽真空和沉積膜操作。
特性
Model： ei
- 提供多種蒸發源(EB,電阻，EB+電阻)
- 用於各種製程（剝離製程、行星式製程、衛星製程等）的基板支架
- 卓越的PC易用性和功能(配方功能、數據記錄和維護輔助功能)
- Φ50至Φ200mm，矩形基板，Si、化合物、玻璃、陶瓷等，相容於各種基板
Model： EVD
- 提升lift off性能，可安裝更多基板
- 提供多種蒸發源(EB,電阻，EB+電阻)
- 卓越的PC易用性和功能(配方功能、數據記錄和維護輔助功能)
- 支援φ50～φ200mm基板、矩形基板、Si、化合物、玻璃、各種陶瓷基板
用途
- 與功率器件等化合物相關
- LED、LD、高速等設備
- 各種實驗用
- 其他電子零件
規格
| Model | ei-5 | EVD-600LP |
| 基板支架 | 公轉、行星、衛星 | 行星 |
| SS距離 | 680mm | 730mm |
| 入射角 | 4.3° Φ100mm 6.4° Φ150mm |
約4°Φ100mm 約6°Φ150mm |
| 蒸發源 | EB槍，電阻加熱 | |
| 標準排氣係統 | 16吋低溫泵 | |
