乾蝕刻設備

Model：NLD-5700

此乾蝕刻設備配備了我們專有的磁中性線電漿，可為光學元件和MEMS產生低壓、低電子溫度、高密度等離子體。

特性

標準配備盒式腔室，透過添加對準機構可作為量產裝置使用。
可以安裝額外的蝕刻室和減壓室
與ICP法相比，NLD可以產生低壓、高密度、低電子溫度的等離子體，因此可以加工石英、玻璃、水晶、LN、LT基板
腔室維護簡單且高效率
提供從光罩蝕刻到石英和玻璃蝕刻，涵蓋廣泛製程的解決方案。

用途

光學元件（繞射光柵、調製器、光波導、光開關等）
凹凸型微透鏡
光子晶體
流體路徑（μ-TAS）創建

產品介紹