乾蝕刻設備

Model： NLD-570

乾蝕刻設備配備了我們專有的磁中性線電漿可產生低壓、低電子溫度、高密度等離子體。

特性

與ICP法相比，NLD產生的等離子體壓力較低、密度較高、低電子溫度，適合於石英、玻璃、水晶、LN、LT基板等的加工，可進行形狀控制和表面光滑度優異的蝕刻。
機箱維護簡單、高效
提供從光罩蝕刻到石英和玻璃蝕刻，涵蓋廣泛製程的解決方案。

用途

光學元件（繞射光柵、調製器、光波導、光開關等）
凹凸型微透鏡
光子晶體
流體路徑（μ-TAS）創建

產品介紹