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溅射装置

Model: ENTRON-EXX

这是一套多室型室溅射系统,支持多种设备的生产,包括尖端半导体逻辑、存储器(DRAM、NAND、下一代非挥发性存储器)、封装等。通过组合各种工艺模块(溅射、预清洗、加热、冷却)并增强数据收集和分析能力,我们为客户提供最佳的开发和生产环境。

特性

  • 通过提供两种平台 (单台和串联*),您可以根据您的工厂空间有效地布置设备,从而最大限度地提高单位空间的生产效率
  • 可快速添加和更换模块的设计可灵活地满足不断变化的需求
  • 多达12个模块(溅射、预清洁、加热和冷却)
  • 与之前的型号相比,它具有更高的数据收集和分析性能,即使在日益复杂的半导体制造现场也能实时处理大量数据,有助于提高成品率、预防性维护和提高工作效率。

※单层设计简单、节省空间,并带有一个传送室 (芯) 。串联将两个传送室 (芯) 串联放置,适用于需要更高工作效率的复杂流程。

用途

  • 半导体(逻辑、DRAM、NAND、NVM)
    金属布线、再布线层(RDL)形成、保护掩模形成、电连接形成、功能性成膜

产品介绍视频

传统型号ENTRON-EXW 300的产品信息此处

产品介绍

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