溅射设备
Model: ENTRON-EXX
这是一款多腔室式溅射系统，可满足最先进半导体逻辑器件，存储器（DRAM、NAND、下一代非挥发性存储器）以及封装等多种器件的生产需求。通过组合各种工艺模块（溅射、预清洗、加热、冷却）并凭借增强的数据采集与分析能力，为客户提供最优的开发与生产环境。
特长
- 通过提供两种平台 (单传输室型和串联配置※)，可根据客户的工厂空间高效布局设备，从而最大限度地提高单位面积的生产效率
- 凭借可快速添加和更换模块的设计，可灵活应对不断变化的需求
- 最多可搭载12个模块(溅射、预清洁、加热和冷却)
- 相较于传统机型，它具有更高的数据采集与分析性能，即使在日益复杂的半导体制造现场也能实现海量数据的实时处理。有助于提高良率、实施预防性维护并提升工作效率
※单传输室型设计简单、节省空间，配备一个传送室 (核心) 。串联配置则将两个传送室 (核心) 串联排列，适用于对生产效率要求更高的复杂工艺。