溅射设备
Model：ENTRON-EX W300
这是一款多腔室式溅射系统，可满足最先进半导体逻辑器件，存储器（DRAM、NAND、下一代非挥发性存储器）以及封装等多种器件的生产需求。通过组合各种工艺模块（溅射、预清洗、加热、冷却），来满足客户的需求。
模型：这是升级版 ENTRON-EXX 之前的传统机型。
特长
- 经过改良，致力于提升量产性，空间利用率和稳定性，是一款已在众多量产工厂获得认证的畅销机型
- 最多可搭载10个工艺(溅射、预清洗、加热、冷却)
- 搭载本公司研发的新型搬运机器人，实现了100wph以上的机械吞吐量
- 提供适用于专用工艺或微型工厂的单一平台，以及支持大型工厂的和串联平台，灵活满足客户的生产计划
- 配备EES系统，以监控和管理设备的运行状况
用途
- 半导体（逻辑芯片、DRAM、NAND、NVM）
金属布线、再布线层（RDL）形成、保护掩模形成、电气连接形成、功能膜形成