离子注入设备
Model： IMX-3500
离子注入设备最大可处理能量200kV，晶圆尺寸最大可达Φ200mm，非常适合大学等机构的研发。
特性
- 离子源可用于离子生成，以及易于安全操作的气源、固体蒸发源。
- 高压终端区与量产设备配置相同，确保高可靠性。
- 最大晶圆尺寸为Φ200mm，且载盘可兼容不规则基材。
用途
- 从研发到小批量生产
- MEMS
规格
| Model | IMX-3500 |
| 基材尺寸 | 最大φ150（φ200，也支持异形基材） |
| 能量 | 30~200keV (可选3~200keV) |
| 最大束流 | 11B+ 400μA（200keV) |
| 31P+ 600μA（200keV) | |
| 离子种类 | B、P、As、Si、Ge、Sb、In等 |
