건식 에칭 장치
Model： NLD-570
당사가 독자적으로 개발한 자기 중성선 플라즈마 (NLD)에 의한 저압, 저전자 온도, 고밀도 플라즈마를 탑재한 건식 에칭 장치 입니다.
특징
- NLD는 ICP 방식에 비해 저압, 고밀도, 저전자 온도의 플라즈마를 생성하여 석영, 유리, 수정, LN, LT 기판 등의 가공에 대응. 뛰어난 형상 제어와 표면 평활성을 실현한 에칭이 가능
- 챔버 유지 보수가 쉽고 효율적
- 마스크 에칭부터 석영, 유리 에칭까지 다양한 공정 솔루션 제공
용도
- 광 회석 격자 회절격자 나 변조기, 광 도파로 광 스위치 등)
- 요철형 마이크로 렌즈
- 포토닉 크리스탈 포토닉결정
- 유체 경로 (μ-TAS) 생성
