這是一種可處理大量基板的垂直批次滾筒濺鍍系統。它是一種簡單易用的通用型號,可滿足廣泛的需求。
| Model | SV-4540 | SV-6040 | SV-9040 |
| 標準排氣係統 | 12”低溫泵 | 12”低溫泵 | 16”低溫泵 |
| 到達壓力 | 6.7e-5Pa | 6.7e-5Pa | 6.7e-5Pa |
| 沉積膜方向 | 側面 | 側面 | 側面 |
| 沉積膜面積均勻性 寂靜 旋轉 |
L300mm±10% | L300mm±10% | L400mm±10% |
| 基板加熱 | 250℃ | 250℃ | 250℃ |
| 控制係統 | 自動 | 自動 | 自動 |
| 選項 SV-200除外 |
渦輪泵 | 非水冷電極 | |
| 油擴散泵 | APC機制 | ||
| 多次同時置入 | 基板翻轉機構 | ||
| 下降沉積 | 反應性濺射 | ||
| 常規陰極 | |||
| 鐵磁體陰極 | |||
| RF蝕刻清洗 (SV-4540) | |||
| 偏置機構 (SV-4540) | |||
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