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濺射裝置

Model: SV

這是一種可處理大量基板的垂直批次滾筒濺鍍系統。它是一種簡單易用的通用型號,可滿足廣泛的需求。

特性

  • 旋轉滾筒式可同時處理多張基板。非常適合中小規模或小批量、多產品的生產。
  • 支援方形基板和沉積膜

用途

  • 在各種基板上沉積膜電極沉積膜、絕緣膜和介質膜

規格

Model SV-4540 SV-6040 SV-9040
標準排氣係統 12”低溫泵 12”低溫泵 16”低溫泵
到達壓力 6.7e-5Pa 6.7e-5Pa 6.7e-5Pa
沉積膜方向 側面 側面 側面
沉積膜面積均勻性
寂靜
旋轉
L300mm±10% L300mm±10% L400mm±10%
基板加熱 250℃ 250℃ 250℃
控制係統 自動 自動 自動
選項
SV-200除外
渦輪泵 非水冷電極
油擴散泵 APC機制
多次同時置入 基板翻轉機構
下降沉積 反應性濺射
常規陰極
鐵磁體陰極
RF蝕刻清洗 (SV-4540)
偏置機構 (SV-4540)

產品介紹

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