離子注入設備
Model： IMX-3500
離子注入設備最大可處理能量200kV，晶圓尺寸最大可達Φ200mm，非常適合大學等機構的研發。
特性
- 離子源可用於離子生成，以及易於安全操作的氣體源、固體蒸發源。
- 高壓端子段與量產設備配置相同，確保高可靠性。
- 最大晶圓尺寸為Φ200mm，且壓板可相容於不規則基板。
用途
- 從研發到小批量生產
- MEMS
規格
| Model | IMX-3500 |
| 基板尺寸 | 最大φ150（φ200，也支援異形基板） |
| 能量 | 30~200keV (可選3~200keV) |
| 最大電子束流 | 11B+ 400μA（200keV) |
| 31P+ 600μA（200keV) | |
| 離子種類 | B、P、As、Si、Ge、Sb、In等 |
