溅射装置
Model：ENTRON-EX W300
这是一套多多室型系统，支持各种器件的生产，包括尖端半导体逻辑器件、存储器（DRAM、NAND、下一代非挥发性存储器）以及封装。我们可以通过组合各种工艺模块（溅射、预清洗、加热、冷却）来满足客户的需求。
模型：这是过渡到 ENTRON-EXX 之前的常规模型。
特性
- 经过改良，追求量产性、空间效率、稳定性，在众多量产厂获得认证的长期畅销机型
- 多达10个流程(溅射、预清洁、加热和冷却)
- 搭载本公司制造的新型搬运机器人，实现了100wph以上的机械吞吐量
- 为您的生产计划提供灵活的单平台和串联平台，适用于专用工艺或小型工厂
- 配备EES系统，以监控和管理设备的运行状况
用途
- 半导体（逻辑、DRAM、NAND、NVM）
金属布线、再布线层（RDL）形成、保护掩模形成、电连接形成、功能性成膜