材料
FPD制造设备专用
FPD制造设备专用
溅射靶材
我们为日益多样化和规模更大的FPD（平板显示器）市场提供稳定的高品质材料供应。
・确保全球物资供应
・大型靶材的质量管理设施及系统
（不仅支持G8代，还支持超大玻璃基材）
·与内部实验室合作，为您的流程提供最佳材料
特性
- 适用于所有领域的溅射目标，包括TFT, OLED (LTPS:低温多晶硅) 和触摸屏
- 通过导入大型超声波探伤装置，进行细致的材料中的缺陷检查和接合检查，实现了溅射时电弧发生量的减小化，提供了高品质的靶材
- 我们在亚洲国家的客户附近安装了可容纳更大玻璃基材键合设备和成膜设备，提供完整的靶材供应系统和高可靠性的金属键合技术。
- 粒子繁殖抑制的溅射目标
- 金属组成调整带来的高均匀性
低电阻Cu布线工艺用Cu-Mg-Al类合金
- 低电阻布线工序中可成膜的靶材（纯Cu膜的氧化抑制阻挡层采用Cu-Mg-Al合金的层结构）
- 由于采用与布线层相同的铜类材料，因此利用湿法蚀刻易于加工(不使用过水系统和氟酸系统的蚀刻液。可进行 (1液) 加工)
用于FPD的溅射靶材料
| 靶材 | Purity |
| Ti | 4N5 |
| Cu及Cu合金 | 4N |
| Ag及Ag合金 | 4N |
| Si & SiO2 | 4N |
| Mo | 3N5 |