复合处理单元
Model：LX-200
该成膜设备可进行二次电池的锂沉积和各种材料的溅射。它可用于开发现场。
特性
- 可在锂气相沉积前后原位溅射
- 节省空间的设计
- 可根据成膜材料选择直流或射频电源
- 可在200毫米见方的基材上成膜
用途
- 二次电池材料开发
规格
| Model | LX-200E | LX-200S | LX-200ES | |
| 基材尺寸 | Max 200mm□ | |||
| 成膜区域 | Max 180mm□ | |||
| 设备配置 | 1)进料室/出料室 | 1个房间 | 1个房间 | 1个房间 |
| 2)搬运室 | 1个房间 | 1个房间 | 1个房间 | |
| 3)蒸镀室(坩埚，放入) | 1个房间 | - | 1个房间 | |
| 4）溅射室（向上沉积，最多4个阴极） | - | 1个房间 | 1个房间 | |