Model:LX-200|复合处理器|产品介绍|爱发科
复合工艺设备

Model:LX-200

这是一款专为二次电池设计,可进行锂蒸镀及各种材料的溅射。它适用于研发现场。

特长

  • 可在锂蒸镀前后于In-situ环境中进行溅射
  • 节省空间的设计
  • 可根据成膜材料选择直流或射频电源
  • 可处理200mmX200mm的基板

用途

  • 二次电池材料开发

规格

Model LX-200E LX-200S LX-200ES
基板尺寸 Max 200mm□
成膜区域 Max 180mm□
设备配置 1)装载/卸载室 1腔室 1腔室 1腔室
2)搬运室 1腔室 1腔室 1腔室
3)蒸镀室(坩埚,向上沉积) 1腔室 - 1腔室
4)溅射室(向上沉积,最多4个阴极) - 1腔室 1腔室

产品介绍

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