扩散炉
Model： H83 / H84
该扩散炉拥有超过30年的经验，可靠性极高，可用于200mm硅片的扩散、热氧化、退火等热处理。
特性
- 用于硅片扩散、热氧化和退火工艺的卧式炉
- 一台设备可以选择不同的流程
- 3段、4段构成，实现了节省空间
- 五个区域加热器均独立控制，可实现温度均匀和稳定的温度控制。
- 配备内部控制系统，操作简单、可靠。
- H83-125、H84-125标准配备了小艇升降机，便于上铺装载
- 可用的工艺包括热解氧化、湿法氧化、干法氧化、使用三氯氧化磷（POCl 3）和三溴化硼（BBr 3）的磷磷扩散和硼扩散以及退火。
用途
- 硅片扩散、热氧化和退火
规格
| Model | H83-50 | H83-125 | H84-125 |
| 过程 | 氧化、扩散、退火 | ||
| 晶片直径 (mm) | ～ 200（8 inch） | ||
| 段数 | 3 | 3 | 4 |
| 产品晶片数 (片) | 50 | 125 | 125 |
| 加热区 | 5 | ||
| 加热器材料 | Fe-Cr-Al | ||
| 工作温度 (°C) | 600～1200 | ||
| 均热长度 (mm) | 370 mm | 800 mm | 800 mm |
| 温度均匀（℃） | ±1.0 °C | ||