이온 주입 장치
Model： IMX-3500
최대 에너지 200kV, 웨이퍼 사이즈 Φ200mm까지 대응 가능한 이온 주입 장치로 대학 등에서의 연구 개발에 최적입니다.
특징
- 이온 소스은 B, P, As 등 이온 생성에 가스 소스 외에도 안전상 취급이 용이한 고체 증발원도 사용 가능
- HV 터미널 부분은 양산 장치와 같은 구성으로 되어 있어 높은 신뢰성을 확보
- 최대 웨이퍼 크기는 Φ200mm로, 부정형 기판 에도 대응한 플래튼 Platen을 탑재
용도
- 연구개발에서 소량생산용
- MEMS
사양
| Model | IMX-3500 |
| 기판 사이즈 | 최대 Φ150(Φ200, 부정형 기판 에도 대응) |
| 에너지 | 30~200keV(옵션으로 3~200keV 대응) |
| 최대 빔 전류 | 11B+ 400μA（200keV) |
| 31P+ 600μA（200keV) | |
| 이온종 | B, P, As, Si, Ge, Sb, In 등 |
